多弧离子渗镀CoNiCrAlTaY涂层的研究

本文采用多弧离子渗镀技术,在镍基高温合金基片上获得扩散层和沉积层,形成了既有扩散层又是等轴晶组织的CoNiCrAITaY抗高温氧化涂层;分析了涂层和界面的成分、组织形貌;进行了静态氧化试验。     

溅射碳膜复型技术的研究

探索了用直流二极溅射或磁控溅射方法,对碳钢及合金钢制备透射电镜样品用碳复型的技术。这些新的复型方法具有设备简单,操作方便,膜层牢固,分辨率高等一系列优点,有一定实用价值。     

多弧离子渗镀MCrAlY涂层研究

首次研究采用多弧离子渗镀技术在镍基GH220基材上渗镀抗氧化、耐腐蚀的CoCrAlYTa涂层。分析了工艺参数对涂层成分、组织结构和沉积速率的影响。选定了最佳工艺参数。得到了有扩散层,又是等轴晶组织的MCrAlY涂层。该涂层具有优良的抗氧化性能。     

在双喷减薄中恒电流对电子透明区的保护

目前,透射电镜薄膜样品的制备方法,大多采用双喷电解抛光作为最终的减薄方法,抛光电源采用一般的稳压直流电源,样品被减薄至穿孔,在孔的周围获得电子能够穿透的“透明”薄区。众所周知,制备电镜样品的成败除了与电解液和抛光条件的选择有关,对样品穿孔的控制是很关键的。利用稳压直流电源制作样品,速度较快,但样品在穿孔时不易控制。到目前为止,用于控制穿孔的多种自控方法(如光电管、光电控制器)都存在不足之处。为此,作者从保护薄区入手,采用恒流直流电源代替一般稳压直流电源制作电镜样品,对Ni-Al、Fe-Ni、纯Fe、45号钢等样品进行双喷减薄,取得显著效果,制备样品成功率(在双喷前的各工序良好操作条件下)几乎达到百分之百。对同一材料,在同样电解液与抛光条件下,分别使用恒流与稳压电源进行了对比实验,结果表明,恒流源抛光的样品穿孔较小,从而薄区较大。用恒流源保护薄区的思想是独特的,它不同于以前只用控制穿孔速度的办法来增加“透明”薄区,而利用恒流源自身的特性,在穿孔时自动减少抛光功率,以保护“透明”薄区,其原因可能是:利用恒流源抛光功率、电流和电阻存在着一定的关系,P=I~2R。因为在穿孔时电解液的电阻降低,而电流值不变,这样使穿孔时的抛光功率降低,穿孔很小,因而可以得到大面积的电子透明的薄区;利用稳压源,抛光功率,电压和电阻存在着一定关系,P=U~2/R,穿孔时电解液的电阻降低,而电压值不变,这样使穿孔时的抛光功率升高,穿孔较大,有用的“透明”区被腐蚀掉了。综上所述,采用恒流直流源代替稳压直流源制作电镜样品,不失为一种有效和方便的方法。     

多弧离子渗金属——利用金属弧光等离子体进行表面台金化的新技术

本文作者将多弧离子镀技术发展为多弧离子渗金属技术，充分发挥了阴极电弧源产生的金属弧光等离子体的作用。获得了各种渗金属层、渗镀结合层。本文介绍了多弧离子渗金属原理和各种渗金属层的特征。     

恒流源在制备透射电镜薄膜中的应用

用恒流源代替一般的稳压电源,进行了电镜样品的电抛光实验,结果表明,恒流源能有效地保护“透明”的薄区。     

多弧离子渗金属——利用金属弧光等离子体进行表面合金化的新技术

本文作者将多弧离子镀技术发展为多弧离子渗金属技术。充分发挥了阴极电弧源产生的金属弧光等离子体的作用。获得了各种渗金属层、渗镀结合层。本文介绍了多弧离子渗金属原理和各种渗金属层的特征。     

多弧离子镀中磁场对电弧运动影响的研究

多弧离子镀技术中的关键部件是蒸发源,蒸发源的电弧放电特性受磁场的严格控制。本文对真空电弧等离子体在磁场中的受力进行了分析,研究了磁场对电弧运动的影响规律。