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1.
为提高high-k/Ge界面质量,在high-k介质和Ge表面引入薄的TaON界面层。相对于没有界面层的样品,HfO2/TaON叠层栅介质Ge pMOSFET样品的空穴迁移率有显著提高,但仍小于理论预测值。利用high-k栅介质MOSFET中各种新的附加散射机制,分析了迁移率退化的原因,模型计算结果与实验结果一致。  相似文献   
2.
超薄HfN界面层对HfO_2栅介质Ge pMOSFET电性能的改进   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过在高k介质和Ge表面引入一层超薄HfN界面层,实验制备了HfO2/HfON叠层栅介质Ge MOS器件。与没有界面层的样品相比,HfO2/HfON叠层栅介质MOSFET表现出低的界面态密度、低的栅极漏电和高有效迁移率。因此利用HfON作为Ge MOS器件的界面钝化层对于获得小的等效氧化物厚度和高的high-k/Ge界面质量有着重要的意义。  相似文献   
3.
Ti6Al4V合金氮离子注入层的成分、组织结构及摩擦学性能   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了Ti6Al4V合金氮离子注入的背景,比较了离子束离子注入及等离子体基离子注入氮,综述了注入层成分、组织结构、硬度、摩擦系数及磨损性能变化的研究进展,总结了到目前为止得出的规律,探讨了变化的可能机理。并对今后的研究方向作了展望。  相似文献   
4.
1 INTRODUCTIONTi 6Al 4Valloyiswidelyusedinaviation ,spaceandmedicalindustriesbutrestrictedtotribologicalapplicationstoacertainextent[1,2 ] .Theuseofanewcost effectivetechnique ,plasma basedionimplanta tion (PBII) ,forimprovingsurface propertiesbyformingTiN ,carbid…  相似文献   
5.
1 IntroductionPoorsurface relatedpropertiessuchastribologicalpropertyhaverestrictedthefur therapplicationsofTi 6Al 4Valloyusedinaviationandspacetechnologyforstruc turalpartsandinmedicaltechnologyfortotaljointreplacementsduetoitsuniquecombinationofdesirab…  相似文献   
6.
HfO2/TaON叠层栅介质Ge MOS器件制备及电性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
为提高高k/Ge MOS器件的界面质量,减小等效氧化物厚度(EOT),在high-k介质和Ge表面引入薄的TaON界面层.相对于没有界面层的样品,HfO2/TaON叠层栅介质MOSFET表现出低的界面态密度、低的栅极漏电和较好的输出特性.因此利用TaON作为Ge MOS器件的界面钝化层对于获得小的等效氧化物厚度和高的高k/Ge界面质量有着重要的意义.  相似文献   
7.
介绍了Ti6l4V合金氮离子注入的背景,比较了离子束离子注入及等离子体工离子注入氮,综述了注入层成分、组织结构、硬度、摩擦系数及磨损性能变化的研究进展,总结到了目前为止得出的规律,探讨了变化的可能机理。并对今后的研究方向作了展望。  相似文献   
8.
季红兵  徐晨 《微计算机信息》2007,23(29):102-103,225
介绍了软件无线电的基本结构,研究了新一代可编程片上系统(system on a programmable chip,SOPC)的特征,提出了基于新一代SOPC的软件无线电资源共享自适应结构,给出了采用这种结构的感知信道衰落、调制方式自适应的软件无线电系统实例,这种结构有望成为软件无线电及感知无线电(cognitive radio)的支柱技术之一。  相似文献   
9.
0 INTRODUCTIONPlasma basedionimplantation (PBII)ofnitrogenisreportedtobeaverycost effectivetechniqueforsurfacemodificationofTi 6Al 4Valloy[1~ 4 ] .Futureworkremainstoconcentrateondeterminingtheexactmechanismofthetechniquewhenappliedtothealloy[2 ] .Forconventiona…  相似文献   
10.
基材、添加元素及中间层对DLC膜结构与性能的影响   总被引:4,自引:0,他引:4  
扼要地介绍了基体材料、在DLC膜中添加元素及各种中间层对DLC膜结构与性能影响的研究现状。  相似文献   
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