透明细网裂纹釉的研制

本实验采用钾长石、石英、高岭土、碳酸镁为原料制备裂纹釉。先确定基础配方,再通过单因素实验改变各组分的加入量,根据烧制后的釉面形态选出最佳配方范围,分析原料组成对釉面裂纹的影响。实验表明:较好的釉料配方组成范围是:钾长石63%～66%,石英25%～28%,高岭土8%～11%,碳酸镁1%左右。在上述实验条件下所得釉面裂纹可呈现较好的艺术效果,且釉面质量最佳。     

三柱靶磁控溅射镀膜机在工艺品装饰镀中的应用

将三柱靶磁控溅射镀膜机应用于工艺品装饰镀生产中,开发多种镀膜工艺并进行了批量生产,实践证明:三柱靶磁控溅射镀膜技术结合特制的衬底漆和保护面漆涂装工艺,能够在工艺品上获得合格的装饰层.拓展该技术在工艺品行业的应用,可有效减轻传统电镀对环境的污染.     

表面处理技术在塑料模具上的应用

模具是压力加工及其他成形技术的关键工艺装备,而模具材料是模具加工业的基础。但即使是新型的模具材料仍难以满足模具高的综合性能的要求。表面处理技术可以以下列两种方式被我     

柱弧离子镀和非平衡磁控溅射镀制备Ti-N-C黑色硬质膜

采用柱弧离子镀和中频孪生靶非平衡磁控溅射镀膜技术制备了Ti-N-C多层复合黑色硬质膜.采用轮廊仪扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计、显微硬度计等手段研究了所得膜层的各项性能.结果表明,两种工艺都可以获得颜色较深的黑色硬质膜,柱弧离子镀制备黑色硬质膜的效率高、力学性能更好;中频孪生靶非平衡磁控溅射制备的黑色硬质膜表面光滑、颜色更深.     

不同掺氮量的类金刚石薄膜的微观结构及其性能研究

采用激光拉曼光谱、轮廓仪、色差仪、微纳米力学综合测试系统、摩擦磨损试验机等设备,对霍尔等离子体源辅助中频非平衡磁控溅射制备的不同掺氮量的类金刚石薄膜的微观结构及其宏观性能进行了研究.结果表明,随着氩气/氮气流量比的增加,薄膜中的sp3含量出现极大值,极大值两侧对应着不同的微观机制.同时,薄膜的沉积速率逐渐降低,硬度与弹性模量呈现出先增大后减小.薄膜的颜色主要是黑色并随着氮气含量的增加薄膜反射率在红光波段增强.     

间规聚苯乙烯共混改性研究进展

介绍了间规聚苯乙烯(SPS)的特点，论述了间规聚苯乙烯共混改性的研究进展。详细介绍了SPS和聚苯醚共混，SPS和弹性体共混以及SPS和聚酰胺、聚酯等高聚物的共混改性，并展望了SPS的应用前景。     

EDA教学实验平台的设计与实现

详细介绍了一种较实用的EDA教学实验平台的设计与实现。该实验平台提供了丰富的外围设备及各种常用外部设备的端口，功能齐全、使用方便，不仅可用于与计算机专业相关的各类EDA教学的实验与演示，还可用于基于CPLD的各种复杂数字系统的开发。该平台除能完成各种基本数字电路及数字系统的EDA外，还覆盖了《计算机组成原理》、《计算机接口与通信》及《自动控制》等课程。     

低温离子渗氮时间对304不锈钢渗层的影响

对304奥氏体不锈钢进行400 ℃不同时间的离子渗氮处理.利用光学显微镜、轮廓仪、能谱仪、X射线衍射仪和显微硬度计研究了经渗氮处理后试样改性层的表面形貌、微观结构、相组成和性能等.结果表明,随着渗氮时间的延长,试样表面的粗糙度、渗层厚度、表面氮含量、显微硬度基本呈线性增加;X射线衍射分析表明,在400 ℃不同时间的渗氮层为单一S相,并无CrN相析出.     

离子渗氮新技术的研究现状

为了克服传统离子渗氮的一些固有缺点，近些年来出现一些新的离子渗氮技术，如活性屏离子渗氮、等离子体源离子渗氮、离子注入离子渗氮等，本文简要介绍了这些新技术及其原理、特点，总结了这类技术的共性模型。其中，活性屏离子渗氮技术和等离子体源离子渗氮技术有着明显的设备和工艺优势，可能成为离子渗氮技术的发展方向。