装卡方式对搅拌摩擦连接残余应力分布的影响

采用6种不同的装卡方式,开展了3.2 mm厚2024-T3铝合金板搅拌摩擦连接的试验研究,利用切割释放法对试件连接部位进行了上下表面纵向残余应力的测量,并对其分布规律进行了分析研究.结果表明,在没有施加侧顶力时连接接头上表面的残余应力峰值明显高于正常连接,差值约为50 MPa;随着压板距接缝中心距离的增加,残余应力峰值也会逐渐增加；单独增加前进侧压板或后退侧压板距接缝中心的距离,后退侧的残余应力峰值都会明显地提高,与前进侧的差值也得以减小,但采用后者效果更加显著.     

基桩反射波法检测技术在推求桩身砼强度中的应用

用反射波法检测桩身质量是在桩顶加一激振能量,引起桩身的振动,记录桩身的振动信号并加以分析,从而达到确定桩身材料强度、检查桩身的完整性、评价桩身施工质量或确定桩的承载力等目的.以厦门市丽景大厦为例,探讨了反射波法检测桩身质量的原理及方法,实践结果表明用反射波法检测桩身质量简捷可行的.     

对不同厚度聚酯薄膜力学性能的论证

测试一种新型塑料薄膜对几种重要力学性能的荷载,验证用户对其功能性要求的符合性,为新旧国家标准更替提供参考数据。依据国家方法标准测试各项力学性能,在标准规定的实验环境下对不同厚度的8组聚酯薄膜的力学性能进行了测试和论证。实验结果显示,拉伸强度、断裂伸长率、雾度与薄膜厚度成正比关系,热收缩率、摩擦因数、光泽度、润湿张力与薄膜的厚度成反比关系。表明新型聚酯薄膜在各项试验中均表现出了良好的力学性能,为这种新型聚酯薄膜制定产品标准提供了数据支持。     

搅拌摩擦连接技术应用及其过程作用力研究

搅拌摩擦连接是一种先进的连接技术,应用前景十分广阔。在分析搅拌摩擦连接原理及特点的基础上,介绍了该技术的应用及其作用力研究现状,并以两种铝合金板材为对象,采用自制的八角环测力仪对搅拌摩擦连接过程中的三维作用力开展了实验研究。分析了搅拌摩擦连接作用力在连接过程中的变化特点,得到了搅拌头转速、进给速度对稳定阶段作用力的影响趋势。     

水布垭水利枢纽左岸407m高程地质缺陷发育区帷幕灌浆施工

水布垭电站左岸407m高程帷幕灌浆是水布垭左岸渗控工程五层灌浆平洞(台)的最上层,各类地质缺陷发育,存在各类岩溶、断层、裂隙等不良地质现象。本文主要介绍了水布垭左岸407m高程地质缺陷发育区帷幕灌浆的钻孔、灌浆方法和灌浆效果分析。     

发酵液总双乙酰测定方法及其应用

双乙酰为啤酒发酵成熟的标志性产物,但在实际发酵生产过程中,常出现发酵液双乙酰还原正常而发酵过程异常现象;而总双乙酰是双乙酰及其前驱体的总和,测定总双乙酰可以较好地确保正常发酵。本方法用蒸馏法测定发酵液(或啤酒)中总双乙酰的含量,制定了在0℃储酒发酵液中双乙酰和总双乙酰含量分别不大于50μg/L和100μg/L的标准,可以有效地监控发酵过程。该方法能够准确测定啤酒中总双乙酰的含量,对控制双乙酰含量也是有效的,值得推广应用。     

面向激光防护应用的金刚石/V2O5 膜系设计与制备

针对目前激光对红外光电传感器的威胁,为满足红外传感器在可见光与3~5 m波段高透射,低于3 m波段高反射的使用要求,采用光学金刚石作为红外窗口材料,采用具有热致相变特性的V2O5薄膜作为激光防护涂层,采用ZnS和YbF3作为高低折射率材料,依据膜系设计理论设计具有抗激光致盲能力的红外增透膜并采用TFCalc优化膜系。采用离子辅助法制备增透膜,采用磁控溅射法在实验制备增透膜上制备V2O5涂层。采用扫描探针显微镜对光学薄膜的表面三维形貌及粗糙度进行测试分析,对薄膜进行红外光谱测试分析,结果满足使用设计要求。     

晶化温度对硅渣微晶玻璃形成机理和性能的影响

本文以硅渣为主要原料,利用熔融法制备了高强度微晶玻璃。采用差热分析(DTA)、X射线衍射(XRD)和扫描电镜(SEM)研究了不同晶化温度对硅渣微晶玻璃的晶相演变、显微结构、形成机理和样品性能的影响规律。研究结果表明:在最佳晶化温度870℃时,主晶相为铁板钛矿(Fe2TiO5)和透辉石(CaMgSi2O6)复合晶相,微观结构致密,晶粒呈球状,抗折强度为270MPa,维氏显微硬度为989.72MPa,耐化学腐蚀性能较好。     

金刚石衬底的氧化钒薄膜光电特性研究

利用射频磁控溅射方法,在光学级单晶金刚石上制备了氧化钒薄膜,然后对其结构与厚度、表面形貌、电学及光学性能进行了表征。实验结果表明,制备出的薄膜表面均匀性良好,为单一组分的V2O5薄膜,在（001）面有明显的择优取向,薄膜结晶度和表面形貌非常好;电学性能方面,获得了三组不同厚度V2O5薄膜温阻特性曲线,当薄膜为150 nm时,薄膜的电学突变特性最好,电阻值变化幅度将近3个数量级;对不同厚度薄膜的光学响应特性进行了测试分析,当受到高能激光照射时,薄膜均出现了相变和回复,薄膜的光学开关时间均随着膜厚的增加而增加,其中光学关闭时间的变化范围为1.6~2.5 ms,回复时间的变化范围为26~33 ms。