热处理制度对玻璃金属封接行为的影响

本文借助光学显微镜观测手段,通过分析玻璃金属封接过程中平均孔径和孔隙率随封接温度和保温时间的变化,详细研究了热处理制度包括封接温度和保温时间对玻璃金属封接行为的影响。随着封接温度的升高,平均孔径先增大后减小,然而孔隙率先出现增加趋势,当封接温度高于980℃时基本则保持不变。随着封接时间的延长,平均孔径先逐渐增加后迅速降低,孔隙率则显著增加然后缓慢增加,接着迅速降低。另外,封接温度的提高和保温时间的延长都将导致无气泡带的变宽。本文根据封接热处理制度的变化,提出了一种空间气泡演变结构模型。     

高压绝缘子自然污秽中阴离子组成的分析

利用抑制性离子色谱仪对全国各地户外高压绝缘子自然污秽物水溶液中的F-、Cl-、NO3-、SO42-4种阴离子含量进行了分析。定量方法采用标准曲线法。结果表明,污秽物中F-离子含量最低,大多数都小于1 mg/g;SO42-含量远远高于其它3种一价阴离子,基本都超过了100 mg/g,最高的达到了300 mg/g。表明离子色谱法能够准确地测定电缆污秽物中阴离子的种类与含量,具有检测限低,检测范围宽,快速准确的特点。     

影响TA1钛合金电解质等离子抛光的关键因素研究

为了研究一种高效率、高质量的TA1钛合金植入物表面光整加工方法,在对TA1钛合金电解质等离子抛光过程中的电流-电压特性分析的基础上,研究工作电压、抛光液温度及抛光时间等关键因素对表面粗糙度和材料去除率的影响规律及作用机制,并对电解质等离子抛光前后试样表面的显微形貌、微观组织结构及硬度变化进行表征,验证该方法的有效性。研究结果表明,当工作电压为300和350 V时,采用电解质等离子抛光能够获得表面粗糙度值较小的表面,并且材料去除率随工作电压升高而降低;随抛光液温度升高,试样表面粗糙度增加,同时材料去除率降低;随抛光时间延长,试样表面粗糙度呈下降趋势;电解质等离子抛光后TA1钛合金结晶度提高,晶粒长大;电解质等离子抛光可去除TA1钛合金表面机械作用产生的加工硬化层,同时增强材料的塑性和韧性。     

电网调度工作评价考核系统的构建

为帮助上级电力调度机构对下级电力调度机构的工作进行考核,从而更好地贯彻落实国家电网公司建设“一强三优”现代公司和坚强智能电网的战略目标,在PI3000基础平台上开发了电网调度工作评价考核系统.系统采用信息化手段,实现了下级调度机构的自评、申报以及上级调度机构对下级调度机构的审核、评分功能.该系统已在国调中心全面投入运行...     

基于Web计算框架的调度日报系统

针对调度日报的动态计算需求,提出了基于Web计算框架的解决方案。该方案以工作流引擎与计算链处理模型为基础,建立了具备动态性和松耦合特征的计算框架,结合具有异步传输特征的Ajax框架,提高了调度日报系统的用户交互界面友好性。通过Web计算框架的异常处理机制,用户不仅可以快速定位系统错误,还可以获取问题的解决方案,从而提高...     

电网调度工作评价考核系统的构建

为帮助上级电力调度机构对下级电力调度机构的工作进行考核,从而更好地贯彻落实国家电网公司建设"一强三优"现代公司和坚强智能电网的战略目标,在PI3000基础平台上开发了电网调度工作评价考核系统。系统采用信息化手段,实现了下级调度机构的自评、申报以及上级调度机构对下级调度机构的审核、评分功能。该系统已在国调中心全面投入运行,并已进一步推广至山西省调等调度单位,用于对下级调度工作的评价考核,对提高企业的核心竞争力具有重大意义。     

不锈钢电解质等离子体抛光表层元素化学形态演变及界面反应

目的 研究不锈钢经电解质等离子体抛光后,表层元素化学形态的变化及机制,为材料去除机理、表面性能、工艺参数、抛光液处理等相关研究提供参考。方法 通过表面粗糙度测试仪、扫描电镜分别对加工前后试样表面粗糙度、形貌变化进行测试表征。通过X射线光电子能谱技术,对加工前后试样表面及抛光液沉积物中主要元素的组成、化学态、分子结构进行测试表征。结合加工现象及材料去除机理,分析加工过程中固、液、气、等离子体之间的界面反应。结果 电解质等离子体抛光后,试样表面平整光亮,预处理中粗磨的痕迹已被完全去除。Ra平均值由0.311μm降低至0.045μm,Rq平均值由0.442μm降低至0.059μm,Rz平均值由3.260μm降低至0.369μm。与抛光前试样相比,抛光后试样表层检测到S⁺⁶和Ni⁺²,沉积物中的Fe均为Fe⁺³,Cr主要为Cr⁺³,含有少量Cr⁺⁶。抛光后试样表面及沉积物中金属元素的化合物主要为氧化物和氢氧化物。结论 电解质等离子体抛光316LVM不锈钢有显著效果,抛光后试样表面粗糙度...     

统一信息上报平台的实现

针对目前调度安全Ⅲ区系统中可能存在的数据上报模块分散、风格各异问题,设计并实现一种统一的信息上报平台.该平台可以将调度安全Ⅲ区系统中所有的上报模块集成在一起,通过电力系统软件基础平台的角色权限服务统一管理上报/查询权限,实现各系统各专业上报统一入口.该平台具有上报数据方式多样化、上报向导人性化、数据校验准确化等特性.该平台已在南网总调正式投运,得到了实际工程应用的验证.     

电解质等离子体抛光316LVM表面形貌及电化学特性

目的 研究电解质等离子体抛光对316LVM植入物不锈钢表面形貌及其在磷酸缓冲盐溶液中的电化学特性的影响,解决复杂形状植入物表面抛光难题.方法 原材料经线切割及表面预处理,制成20 mm×15 mm×3 mm的试验样件.对试样分别进行机械抛光及电解质等离子体抛光.机械抛光在砂带抛光机上进行,使用600、800、1200、2000、5000目的砂带逐级磨抛.电解质等离子体抛光中,电压为300 V,电解液为3％(质量分数)(NH4)2SO4水溶液,温度为85～90℃,抛光时间为15 min.通过粗糙度仪、扫描电镜,对试样表面粗糙度、微观形貌进行测试表征.通过能谱仪、X射线衍射仪,对试样表面元素含量、物相组成进行测试表征.通过电化学工作站,对磷酸缓冲盐溶液中的试样,进行电化学测试.结果 电解质等离子体抛光后,试样表面粗糙度由初始的0.5μm降至0.089μm,试样表面机械加工痕迹被去除,平整光亮.机械抛光后,试样表面化学元素未发生明显变化,而电解质等离子体抛光后,试样表面的Fe、Cr含量升高.机械抛光表面的X射线衍射峰位置和强度未发生明显变化,电解质等离子体抛光后,在衍射角为43.5°处,衍射峰强度明显降低,在74.5°处,衍射峰强度明显升高,同时各峰的半高宽明显减小.在磷酸缓冲盐溶液中,机械抛光试样的自腐蚀电位由-0.252 V升高至-0.232 V,腐蚀电流密度由1.611μA/cm2降低至0.5867μA/cm2,极化电阻由28.876 k?升高至64.682 k?.电解质等离子抛光试样的自腐蚀电位由-0.252 V升高至-0.214 V,腐蚀电流密度由1.611μA/cm2降低至0.1582μA/cm2,极化电阻由28.876 k?升高到251.262 k?.结论 电解质等离子体抛光可有效降低316LVM表面的粗糙度,提高表面平整度.电解质等离子体抛光后,表面Fe、Cr元素的含量升高,晶粒尺寸增大,呈(220)晶面择优取向.电解质等离子体抛光可提高316LVM在磷酸缓冲盐溶液中的耐腐蚀性能.     

液体磁性磨具光整加工氧化锆陶瓷试验研究

为解决氧化锆陶瓷难加工、加工效率低、表面质量差的问题,采用液体磁性磨具光整加工技术对氧化锆陶瓷进行加工.通过配置不同磨料的液体磁性磨具对氧化锆零件进行光整加工,研究磨料种类对加工效果的影响.通过设计单因素试验,研究加工时间、工件转速、磁感应强度和轴向运动速度等主要工艺参数对氧化锆陶瓷表面粗糙度Ra和材料去除率MRR的影...