平面全息光栅制作过程中精确判断线槽的新方法

本文提出了在平面全息光栅制作过程中精确判断线槽的新方法,指出了采用球面波获得直线形线槽的途径,对平面全息光栅光栅常数的检验精度给予了分析。结果表明,该方法能够大大地提高平面全息光栅槽距及直线性的制作精度     

衍射光栅刻划机分度误差的实时测量

本文提出了对光栅分度误差进行实时测量的方法，阐述了此方法的原理和实现过程。对测得数据，根据ｓｔｒｏｋｅ理论分析了分度误差对光栅谱线产生的影响，实践证明，用此方法得到的谱的线轮廓与用光谱法测得的谱线基本一致。     

平面衍射光栅刻划机

目前,绝大部分使用的平面衍射光栅,是在光栅刻划机刻出的光栅上复制出来的复制光栅.因此,由光栅刻划机刻出的光栅叫原刻光栅或母光栅.光栅刻划机是制造光栅的最主要设备.由于衍射光栅有精度要求高(一般在0.01微米数量级),刻划周期长(一般约五昼夜)的特点,光栅刻划机以及机器所处的条件必需与之相适应.我们已设计制造成功四台平面衍射光栅刻划机,机器所需恒温、隔振条件也已解决,现正着手设计第五台光栅刻划机,下面谈几点体会.     

衍射光栅刻划机的高精度开环定位系统

本文介绍以８０３１单片机为核心研制成的衍射光栅刻划机的开环控制的高精度定位系统。系统中采用了光栅干涉仪、程控放大器、干涉条纹细分和马达分级调速等方法,本系统既具有闭环控制的高精度特点,又具有开环控制简单、易操作等优点。实用表明：该系统控制的刻划机的定位精度σ＝３．６ｎｍ,最大定位误差为１４．６ｎｍ。     

衍射光栅分度误差的检测

提出了光栅分度误差的检测方法,指出了它在光栅检验中的应用.     

日本EBV—6DA型镀膜机及其安装调试

日本EBV-6DA型镀膜机是光学镀膜专用的现代化镀膜机。它采用了全自动程序控制的抽气系统;膜厚及速率自动控制系统;剩余气体质谱分析系统等先进技术和一系列安全保护系统。1979年我所进口了一台,经过一年多的装调已正常运转。本文概述此镀膜机的特点及其装调过程。     

平面镀铝衍射光栅的检验

一、光栅的干涉检验光栅干涉检验,实际上是最简单和最能显示光栅刻划质量的检验方法.因此,光栅刻出后,首先进行干涉检验.     

光电控制间歇运动衍射光栅机控制系统的改造升级

在分析了光电控制间歇运动衍射光栅刻划机（原刻划机）的基础上，针对原刻划机存在的不足，提出了相应的改进措施。据此设计构成了以单片机８０３１为核心的数控系统的硬件，实现了对分度信号的程控放大和幅值细分，提高了刻划机的分辨率；另外，用软件实现了直流力矩马达的分级调速，提高了刻划机的刻划精度。实验结果表明，改进后的刻划机分度重复性明显优于０．０５μｍ。     

利用锁相技术控制光栅刻划机

利用锁相环路控制光栅机,使光栅毛坯与钻石刀具两运动按相对位置精确地同步,以提高所刻制光栅的质量.控制后的光栅机,连续工作六昼夜,锁定的稳态相位误差小于4°,即相对定位精度可达0.005微米.