高频辅助溅射沉积及氩气压对Co/Cu磁性多层膜结构和性能的影响

磁控溅射制备薄膜时，工作气体氩气的压强是一个非常重要的参量，氩气压的高低直接影响薄膜的结构形态，这在制备超薄多层膜过程中显得更为重要。利用高频辅助溅射沉积，可使工作气体的压强降低1个数量级，从实验和理论上给予了阐述。最后从巨磁电阻振荡效应方面，对所制备的磁性多层膜的界面状况进行了分析。     

富FeCo晶粒对非晶TbFeCo薄膜磁特性的影响

用磁控溅射法分别在玻璃基底和硅片上沉积Tbx(Fe85Co15)100-x(x=24.7, 40.8, 厚～20nm)薄膜和Fe51Pt49(8 nm)/ Tbx(Fe85Co15) 100-x (～70 nm)双层薄膜,研究了非晶TbFeCo薄膜中富FeCo晶粒的存在对薄膜磁特性的影响.使用磁光克尔效应(MOKE)和振动样品磁强计(VSM)测量样品的磁滞回线,观察到单层TbFeCo薄膜及FePt/TbFeCo双层薄膜中由于富FeCo晶粒的存在导致的磁化反转相分离的特征,并通过测量FePt/TbFeCo双层薄膜的小回线进一步得到了分离后的磁化反转回线,证实了本文的解释.通过改变Tb靶的溅射功率,也观察到Tb含量不同的样品中都存在磁化反转相分离的特征.     

高频辅助溅射沉积及氩气压对Co／Cu磁性多层膜结构和性能的影响

磁控溅射制备薄膜时，工作气体氩气的压强是一个非常重要的参量，氩气压的高低直接影响薄膜的结构形态，这在制备超薄多层膜过程中显示更为重要。     

不同制备条件下的Co/Cu多层膜的巨磁电阻及铁磁共振研究

用溅射方法制备了几批Co／Cu多层膜和夹层膜样品,通过测试发现：Co／Cu多层膜样品的巨磁电阻与制备条件有关。在较高本底真空和较低工作气压条件下制备的样品具有较大的巨磁电阻,其铁磁共振测试的结果和Heinrich的夹层膜的理论计算结果相吻合．     

多层膜软X光反射镜

复旦大学物理系激光研究室从1984年开始软X光反射镜的研制工作。六年来,进行了超薄多层膜的膜厚监控的方法研究、单层超薄金属膜的特性研究、Ni-C和Mo-Si多层膜软X光反射镜的制备与测试以及用PVD与LB技术相结合制备软X光反射镜。本文详细介绍了这些工作。     

用于软X光反射镜的Ni/C、Mo/Si多层膜的制备

本文介绍了用石英晶体振荡膜厚速率监控法,制备用于软X光反射镜的Ni/C、Mo/Si多层膜的工艺过程。制备了一系列周期厚度45—75(?),层数多至50层的多层膜样品,并利用X光小角衍射(Cu kα线:1.54(?))、俄歇电子能谱(AES)、透射电子显微镜(TEM),测试和分析它们的周期结构、界面状况、膜层内各元素包括杂质的成分分布,最后对所设计的Mo/Si膜系做了软X光反射特性的理论模拟计算。