镀制方式对高衰减镍铬合金膜中性度的影响

对比了用不同镀制工艺方式镀制的Ni80Cr20膜中性密度滤光片的中性度特性,溅射工艺镀制的密度片中性度值3.7%,远好于电子枪蒸发和电阻蒸发镀制结果(15%)。采用相平衡理论,模拟计算了的热蒸发镀制的镍铬合金膜的蒸发速率,铬相比镍含量偏高2.8倍,导致了膜层中合金含量相对膜料出现较大差异,导致中性密度滤光片光谱中性度的下降。使用蔡司SUPRA35扫描电镜和牛津EDS能谱仪分别测试了溅射工艺和热蒸发工艺镀制的密度滤光片的镍铬含量,测试结果与模拟分析结论基本一致。     

深背景高陡度荧光滤光片

荧光滤光片是应用于生物医学和生命科学仪器的关键元件。介绍了深背景、高截止陡度荧光滤光片的设计和镀制工艺。采用优化设计HB-βBPF膜系,提高荧光滤光片的隔离度。分析了散射对背景深度的影响,通过优化工艺参数,降低散射。研制的荧光滤光片截止陡度小于10nm(OD0.3~OD5的波长间隔),邻域背景达到OD7~OD8。     

硬膜矩形带通滤光片

介绍了带宽系列为３０～４０ｎｍ 的硬膜矩形化带通滤光片的设计和制造方法。采用七半波膜系以获得矩形化程度较高的通带波形和深度的背景抑制特性（ＯＤ５～ＯＤ６）,结合工艺特性和允差模拟分析对膜系进行优化设计。采用光学过正极值法监控膜厚,采用非球面夹具解决膜厚均匀性问题,文中给出了设计和测试结果     

反光镜测试中曲面数据采集及拟合

为了求得未知椭球曲面的曲线方程,模拟曲面的几何结构,以数字投影系统中椭球反光镜为例,介绍了大口径非球面反光镜数据采集及拟合方法。利用三坐标测量机(CMM)对椭球反光镜面型进行精密测量,根据测试数据,采用数学拟合方法获得椭球反光镜的曲线方程。并对测试模型与拟合曲面进行了光线追迹和误差分析,拟合曲面与测试曲面符合较好。因此,采用三坐标测量机进行曲面数据采集及数学方法拟合,能够得到较理想的拟合曲面方程。     

有限元法计算膜厚均匀性收

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整方法.     

有限元法计算膜厚均匀性

利用有限元法模拟计算了旋转平面夹具、旋转球面夹具、行星旋转球面夹具的膜厚均匀性,分析了均匀性的影响因素,指出了工艺中的调整方法.     

光通讯用低PDL线性渐变衰减滤光片

计算了渐变衰减滤光片的偏振相关损耗,分析了镀膜工艺对偏振相关损耗的影响,提出了降低偏振相关损耗的方法。采用线性迭代修正法和膜厚分布可调控制技术,提高了渐变衰减滤光片的线性度。制造出线性度小于5%、偏振相关损耗小于0.08dB的高性能渐变衰减滤光片。     

光学薄膜技术标准发展综述

为了说明光学薄膜行业相关标准的发展概况,对光学薄膜技术领域相关国家标准和行业标准进行了总结,主要归纳为5个主题方向:膜层功能、面形偏差、表面疵病、环境适应性及产品应用等。介绍了各个主题方向包含的主要标准及发展历程,重点介绍了膜层功能主题方向的标准从1977年以来的4个阶段性发展历程。针对各个主题方向,分析了各个主题方向的国家标准及行业标准的适用性,并提出了光学薄膜领域国家标准及行业标准发展的5项建议:更新相关标准,系列化归纳标准,统一规范标准引用,对复杂标准增加解释说明,根据产业发展需求制定相关新标准。     

《光学和光学仪器-光学薄膜》新国标的制定

介绍了国家标准GB/T26332《光学和光学仪器-光学薄膜》制定的背景及主要内容,分析了制定该标准所采用的国际标准ISO9211不同版本内容的变化及国际标准的发展趋势,对GB/T26332后续的制定和修订提出了建议.     

光学薄膜环境适应性试验方法标准发展综述及新国标介绍

对比分析了国内外现有光学薄膜环境适应性试验方法标准,介绍了2011年6月开始实施的GB/T26331-2010《光学薄膜元件环境适应性试验方法》国家标准的制定背景、制定原则、制定依据、标准结构及主要内容.