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For the determination of electron temperature in plasma,this paper presents a method tomeasure the deionized period by optical attenuation during afterglow.The apparatus was a tube filled to 1mmHg helium with a probe for comparison.The results agreed with the values measured by the probe.Due tousing plasma radiation,one need not worry that the discharge space would be disturbed and the probe wouldbe contaminated by depositing discharge products,So it is a simple and convenient method. 相似文献
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工业机器人机械手爪的设计改进 总被引:1,自引:0,他引:1
本文分析了PUMA工业机器人机械手爪结构方面的优点与缺陷,并针对其不足之处从结构设计,力学原理等方面予以改进,提出一种改进后的实用结构. 相似文献
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本文介绍了热离子能量转换器(简称TEC)的点火型工作状态及其分析计算的物理模型,将电极之间分成五区:即阴、阳极鞘层,过渡区和中性等离子体区;讨论了TEC内的电离机构,计算伏安特性和等离子体参量分布的方法,给出了国外数值计算的结果。 文章指出:TEC内的电离主要决定于阶梯电离;等离子体参量由一维电子和离子流输运方程、连续方程和能量输运方程来描述;电极附近的过渡区则作为边界条件来处理。 相似文献
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随着大规模集成电路技术的飞速发展,强磁场微波放电形成等离子体的方法已广泛应用于刻蚀技术中。近年来,又进一步应用于cVD薄膜形成,离子注入的离子源与反应离子束刻蚀的离子源中。 相似文献
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微波等离子体技术在微电子学工艺中的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
本世纪四十年代末期,人们就对微波放电进行了大量研究以适应当时大功率微波开关管的发展。六十年代中期,当高频(一般为13.56兆赫)放电技术在半导体工艺领域进行应用研究的同时,J.R.Ligenza等人就开展了用微波放电沉积薄膜的研究。七十年代初,日本日立公司、电电公社和日本真空株式会社开始对强磁场条件下微波形成等离子体技术进行了开发研究,并在1981年后陆续研制并生产了适用于刻蚀、沉积和离子注入的商品化装置。目前它们已经用于生产。本文将简略介绍强磁场条件下微波放电形成等离子体的物理特征及其在微电子学工艺中 相似文献
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