CVD单晶金刚石[NV]和[SiV]缺陷的抑制与消除

反应气体中添加体积分数0.001%的N₂,研究CVD金刚石PL(photoluminescence spectroscopy,PL)光谱发现,与N杂质相关的[NV]0与[NV]-和与Si杂质相关的[SiV]是金刚石中的主要杂质缺陷。经过高温高压(high temperature and high pressure,HPHT)处理后,[NV]0峰的强度被削弱,[NV]-峰的强度被增强,[SiV]峰的强度被显著增强,并新出现了[SiV]-宽峰。反应气体中N₂体积分数降至0.000 1%并添加0.5%的O₂后,[NV]0与[NV]-峰消失,O₂升高至1%后[SiV]峰强度出现了明显降低,继续升高O₂含量,[SiV]峰强度下降趋势变缓,这些现象证明了添加少量O₂有助于CVD金刚石中N和Si杂质缺陷的抑制与消除。      

纺纱生产工艺数据集成及监控管理系统开发

介绍一种纺织生产过程工艺数据获取及处理系统。针对现有大型纺织生产过程工艺数据监控管理存在的问题,分析和比较了几种典型纺纱生产过程中获取工艺数据方法的利弊,研发了一种基于现场总线的纺纱生产过程工艺数据集成及监控管理系统。该系统底层基于PROFIBUS DP网络和工业触摸屏获取现场数据,上层采用以太网和服务器冗余架构设计,基于数据库技术对工艺数据进行集成传输和统计分析。实际应用表明:系统运行稳定可靠,有效地实现了纺纱生产过程的监控管理。