首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   7篇
  免费   0篇
化学工业   2篇
石油天然气   5篇
  2019年   1篇
  2016年   1篇
  2015年   2篇
  2010年   1篇
  2008年   1篇
  2007年   1篇
排序方式: 共有7条查询结果,搜索用时 917 毫秒
1
1.
目的探讨半侧空间忽视的发生机制。方法对研究半侧空间忽视发生机制的相关文献进行综合分析。结果半侧空间忽视可能由注意、空间编码和心理表征的缺陷及脑结构神经活动的比例不平衡等引起。结论半侧空间忽视的发生机制尚不十分清楚,有待进一步研究。  相似文献   
2.
赵古3井是位于冀中坳陷晋县凹陷高邑一高村断裂潜山构造带高村潜山的风险探井,完钻井深为5686m。该地区为高含硫地区,井底温度高达180℃且孔店组地层还没有井钻遇过,地层复杂程度难以预测。该井二开(346~3000m)使用聚磺钻井液,三开(3000~5686m)使用聚磺硅氟抗高温钻井液。该井从井深3300m开始加入SN树脂,SN树脂的加入不但降低了钻井液滤失量,并提高了钻井液的抗高温性,但略微增黏;在井深5480m加入了3%成膜剂,控制了高温高压滤失量小于10mL,满足了钻井需要。该井钻井周期为241.23d,平均机械钻速为2.12m/h,施工中无重大复杂情况,所有电测项目均一次成功,电测成功率为100%。  相似文献   
3.
冀中地区第三系油藏东营组与沙河街组地层微裂缝和层理发育良好,硬脆性较强,易剥落掉块,现用防塌剂已不能满足钻井要求。通过以下反应,研制出一种新型井壁稳定剂DLF-50:首先利用分子修饰原理在磺化酚醛树脂分子上引入AMPS、阴离子单体甲基丙烯酸MAA、非离子单体DMAM(N-二甲基丙烯酰胺)和某阳离子单体进行缩合共聚,形成四元共聚物降滤失剂C-P-SMP;然后将其与纳米改性沥青混配,并添加一定量的分散剂,形成该产品。性能评价结果表明,该产品兼具物理和化学双重作用,热稳定性好,在150℃时仍有显著的降滤失效果;同时纳米改性沥青显著提高了泥饼强度和泥饼质量,初始软化温度为80~95℃,最佳使用温度为80~120℃。泽10-108x和宁93x井试验应用加有该处理剂的钻井液后,井眼畅通,井径规则,起下钻无阻卡,无井塌和掉块现象发生,长裸眼条件下井壁稳定。  相似文献   
4.
家3-21X井位于华北油田高家堡构造西北部家3断块,该井含有多个断层,在沙河街组含有大段盐膏层,出现过不同程度的井垮、井漏、缩径、电测遇阻甚至卡钻等复杂问题。为此提出了在原复合盐钻井液配方基础上引入仿生处理剂,以增强井壁稳定,同时添加NaCl,以抑制盐岩溶解的思路,并开展了室内配方优选和评价实验,形成了仿生固壁-复合盐钻井液体系。结果表明,该体系抑制性好,对复合盐岩屑的回收率高,其中盐膏岩的回收率达85%,膏泥岩的回收率达95%,较原体系明显提高;室内加入0.6% CaCl2污染,钻井液流变性能变化不大,综合性能易于调控。该体系在家3-21X井应用,井壁稳定效果好,平均井径扩大率降低幅度达62%,施工周期缩短。  相似文献   
5.
家3-21X井位于华北油田高家堡构造西北部家3断块,该井含有多个断层,在沙河街组含有大段盐膏层,出现过不同程度的井垮、井漏、缩径、电测遇阻甚至卡钻等复杂问题。为此提出了在原复合盐钻井液配方基础上引入仿生处理剂,以增强井壁稳定,同时添加Na Cl,以抑制盐岩溶解的思路,并开展了室内配方优选和评价实验,形成了仿生固壁-复合盐钻井液体系。结果表明,该体系抑制性好,对复合盐岩屑的回收率高,其中盐膏岩的回收率达85%,膏泥岩的回收率达95%,较原体系明显提高;室内加入0.6%Ca Cl2污染,钻井液流变性能变化不大,综合性能易于调控。该体系在家3-21X井应用,井壁稳定效果好,平均井径扩大率降低幅度达62%,施工周期缩短。  相似文献   
6.
计量在钻井生产中有重要作用,通过综合运用计量数据,有助钻井工程师判断和分析井下情况,及时调整钻井参数,有效防范和规避井下风险,确保安全钻井。本文就指重表、钢卷尺、密度计、超声波液位传感器等计量器具的精准计量对安全钻井的重要性展开探讨。  相似文献   
7.
钻井液固控系统配套现状及改进措施   总被引:10,自引:1,他引:9  
结合钻井液固控系统配套现状及固控设备的技术发展状况,分析了固控系统配套中存在的一些误区,并提出了正确选择和使用固控系统及设备的改进措施,以减少钻井过程中各环节的材料消耗,提高钻井速度,从而取得较好的经济效益。  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号