二氧化硅光波导刻蚀参量及掩膜的优化

硅基二氧化硅光波导是光通信中的关键器件.采用光刻胶以及金属作为掩膜进行了反应离子刻蚀二氧化硅光波导的工艺研究,获得了刻蚀速率及刻蚀选择比相对各工艺参数变化的三维神经网络模型.利用一种新型的用于二氧化硅深刻蚀的复合双层掩膜结构,克服了许多单层掩膜自身的限制,并利用这一结构制作出低传输损耗的硅基二氧化硅波导.     

新型抗静电材料在CRT上的应用研究

近年来，随着人们对绿色环保的日益重视，显示器由于近距离长时间观看，其安全性能不论从防电磁泄露还是防静电方面，都不断地提出新的更严格的标准和要求。目前国际上通行的显示器继最初达到瑞士的MPR－Ⅱ标准后，又逐步提高到TCO－95、TCO－98、TCO－99标准。就发展 趋势看，还有继续追求高标准的可能。为此，我们对抗静电材料进行了不懈的研究，力求通过对新型抗静电材料的应用来满足更为严格的安全标准。