铜互连中SiCOF/a-C∶F双层低介电常数薄膜的制备和表征(英文)

用等离子体化学气相淀积系统制备了一种新颖的SiCOF/a-C∶F双层低介电常数介质薄膜,并用红外光谱表征了该薄膜的化学结构.通过测量介质的折射率发现该薄膜长时间暴露在空气中,其光频介电常数几乎不变.然而,随退火温度的增加,其光频介电常数则会减小.基于实验结果讨论了几种可能的机理.二次离子质谱分析表明在Al/a-C∶F/Si结构中F和C很容易扩散到Al中,但在Al/SiCOF/a-C∶F/Si结构中,则没有发现C的扩散,说明SiCOF充当了C扩散的阻挡层.分析还发现在SiCOF和a-C∶F之间没有明显的界面层.     

买台拖拉机4年未领到补贴 惠农政策陷入“马拉松式”流程

正2004年以来,为促进我国农业机械化,中央财政、省级财政分别安排专项资金,对农民和农业生产经营组织,购买国家支持推广的先进适用的农业机械给予补贴。截至2017年,中央财政投入了近1900亿元补贴资金,3000万农民从中获益,助力全国农作物耕种收综合机械化率超过了66%。但记者采访发现,这项惠农补贴却在部分地区陷入"马拉松式"流程,变了"味",农民购买农机办理补贴却成了麻烦事、糟心事、困难事。为了能领到补贴,一些农民不得不长途跋涉,跨市县甚至跨省购机。在河南省     

石墨烯基红外探测器的高k栅氧集成

从石墨烯发现与制备出发,综述了室温下双层石墨烯或石墨烯带禁带在0～250 meV可调的特性,及其在中远红外探测器的背栅、顶栅结构中作为栅氧形成材料的应用,并介绍了目前各种先进工艺.     

一种1090ES相位编码信号的同步算法

载波同步是对1090MHz扩展电文(1090MHz Extended Squitter,1090ES)的相位编码信号进行相干解调的前提和基础,研究针对这种调制方式的基于数据辅助的载波频偏估计算法。构建了1090ES相位编码信号的频偏估计模型,提出了一种基于遗传算法的频偏估计算法,详述了该算法的特点及其实现步骤,并通过MATLAB仿真,分析比较了该算法与Kay算法、Fitz算法及M&M算法的频偏估计性能。该算法的频偏估计范围可以达到采样频率的50%,在信噪比高于3 dB时,频偏估计的均方误差接近于修正的克拉美罗界,并且可以同时兼顾频偏估计精度和频偏估计范围。     

基于前导脉冲辅助的相位调制1090ES信号载频同步算法

基于相位调制扩容1090ES信号为ADS-B带来新的功能和应用,载波频率同步是扩容信号需解决的一项关键技术。针对扩容1090ES信号的突发载频同步问题,提出了一种基于频偏捕获和相位误差跟踪环的快速同步方法,频偏捕获采用前导辅助脉冲相关性判决进行二叉树频率搜索,捕获载频偏差并校正得到频偏较小的基带信号,相位误差跟踪环实现对小频偏信号进行频率估计和补偿。仿真结果表明:该方法适用于基于相位调制的扩容1090ES信号接收系统。     

原子层淀积技术应用于太阳电池的研究进展

原子层淀积(ALD)是一种先进的纳米级薄膜生长技术,在微电子和光电子领域有着广泛的应用前景,尤其在提高太阳电池的光电转换效率方面正发挥越来越大的作用,很可能成为下一代太阳电池工艺中的重要方法。文章综述了近年来ALD技术在太阳电池领域的应用研究进展,详细介绍了ALD技术应用在不同类型太阳电池的最新研究成果和存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。     

大跨度分段涂装工场设计

根据涂装车间泄爆能力的评估报告所提出的泄爆要求,并结合工程特点,完成了大跨度分段涂装工场的设计,在满足泄爆要求的同时,尽可能降低涂装车间工程造价及运行费用。     

掺氮氧化铪的光学特性研究

掺氮氧化铪是半导体工业非常重要的材料。在本论文中,我们利用Hf[N(C₂H₅)(CH₃)]₄ 和 H₂O₂作为原子层淀积的前驱体,制备了二氧化铪材料。然后,我们使用快速热退火的办法,在不同温度下,对二氧化铪进行了氮掺杂工艺。我们对掺氮二氧化铪的组分,跟硅界面的稳定性以及薄膜材料的光学特性随退火温度的变化进行了细致的研究。研究发现,随着退火温度的提高,二氧化铪薄膜材料的氮组分从1.41% 上升至 7.45%,相应的,薄膜材料的禁带宽度从5.82 eV 降低为 4.94 eV。     

Optical properties of a HfO_2/Si stack with a trace amount of nitrogen incorporation

正HfO_2 films were deposited by atomic layer deposition through alternating pulsing of Hf[N(C_2H_5)(CH_3)]_4 and H_2O_2.A trace amount of nitrogen was incorporated into the HfO_2 through ammonia annealing.The composition,the interface stability of the HfO_2/Si stack and the optical properties of the annealed films were analyzed to investigate the property evolution of HfO_2 during thermal treatment.With a nitrogen concentration increase from 1.41 to 7.45%,the bandgap of the films decreased from 5.82 to 4.94 eV.     

一种确定空管监视台站选址范围的方法

为了使空管监视设备的选址更加科学高效,探讨了一种减小选址范围的分析方法。首先,结合地形遮蔽因素和设备垂直辐射特性对设备的覆盖性能进行分析,得到空间内任意一点设备可视的条件,在此基础上提出一种反向视域分析方法,该方法在保证空域覆盖要求的条件下得到选址范围的边界,以及不同位置设置站点所需的天线高度。然后,为避免定位点和航路受到设备顶空盲区的影响,推导出定位点的不合理选址半径和航路不合理选址宽度的计算方法,并在选址范围内剔除顶空盲区影响下不合理的选址区域。最后,对于设备选址其他影响因素造成的不合理选址区域也进行了类似分析,最终可确定一个小范围的选址区域。