基于TINI的电力监控互联系统

介绍了应用于电力系统的微型因特网接口控制模式。讨论了大中小模式的设计连接方式，简述网络安全问题。     

开关电源的设计及相关电路的应用

简要介绍开关电源的工作模型和工作原理，对各工作单元的设计都有较详细的论述，如功率因数校正，移相谐振(准谐振)技术，无主次均流技术等的设计要点。     

化学刻蚀两步法制备硅纳米线(英文)

采用化学刻蚀两步法制备硅纳米线。在制作过程的不同阶段,通过金相显微镜,扫描电子显微镜及透射电子显微镜分别对其表面形态进行观察。结果表明,通过两步法制作的硅纳米线比传统刻蚀方法制作的样品具有更细的直径。光致发光的测量结果表明,两步法制备的硅纳米线在可见光领域有较强的红光发射。     

对数放大器在弱光检测中的应用

为提取弱光检测电路中淹没在噪声中的信号,通常使用高精度放大器尤其是对数放大器来提高电路滤除噪声的能力,其中以对数放大器LOG100为前置放大电路的光电检测电路效果最佳.基于这种电路,提出一种低噪声弱光电检测电路设计方案,以电子元器件相关参数的选择和依据,检测LOG100的输出效果.测量结果表明,输入光信号功率高于1 nW,LOG100噪声滤除性能良好,而低于1 nW时则输出噪声明显增强,可能导致A/D转换输出错误,不利于后续数据处理.     

脉冲激光沉积金刚石基c轴取向LiNbO3压电薄膜

采用等化学计量比的LiNbO3多晶陶瓷为靶材,利用脉冲激光沉积技术在以非晶SiO2为缓冲层的金刚石/Si衬底上制备c轴取向LiNbO3薄膜。研究了靶材与衬底之间的距离对LiNbO3薄膜的结晶质量和c轴取向性的影响,发现在靶材与衬底之间的距离为4.0cm时获得了具有优异结晶质量的完全c轴取向LiNbO3压电薄膜。采用扫描电子显微镜和原子力显微镜对最佳条件下制备的薄膜进行了分析,结果表明制得的薄膜呈与衬底垂直的柱状结构,且薄膜表面光滑,晶粒均匀致密,表面平均粗糙度约为9.5 nm。     

连续或脉冲输出功率可调LD驱动电源设计

基于负反馈原理稳定输出电流,设计一种宽范围连续或脉冲输出功率稳定可调的半导体激光器驱动电源.该电源使用晶体管作为开关,从而缩短脉冲宽度,增加带负载能力.选用现有大规模集成电路,设计力求简单、实用、低成本及高性能.实验结果表明,该驱动电源工作稳定,可以驱动波长范围在650～980 nm的通用半导体激光器,输出功率在0～300 mW范围内可调,连续或脉冲输出形式可通过输入端控制选取,可广泛用于对半导体激光驱动电源体积要求较小的应用中.