首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   7篇
  免费   0篇
  国内免费   4篇
机械仪表   1篇
无线电   7篇
一般工业技术   1篇
原子能技术   2篇
  2005年   6篇
  2004年   2篇
  2003年   2篇
  2002年   1篇
排序方式: 共有11条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
Monte Carlo simulations are adopted to study the electron transport porcess in the non-uniform electric field.Some important parameters of electrons in diamond films dynamic process at low temperature via EACVD such as angle distribution,energy distribution,average energy of electrons are given.The results indicate that the electron scattering near the substrate is mainly of a large-angle scattering,exhibiting a double-peaking distribution .All of the conclusions provide some theoretical data referential to the vapor dynamic model of diamond film growth at low temperature via EACVD.  相似文献   
2.
制作了带有U形隔热槽的马赫-曾德干涉型SOI热光可变光学衰减器,在1510~1610nm波长范围内动态调节范围可达到0~29dB.与未加隔热槽的相同结构光学衰减器相比,器件插入损耗和调制深度不受影响,最大功率消耗降低了230mW.  相似文献   
3.
研究了基于SOI(silicon—on—insulator)材料的阵列波导光栅(AWG)分波器件,给出了此器件材料色散的数值拟合公式,进而利用BPM方法研究了材料色散脊型波导结构变化和器件制做中刻蚀深度误差对波导有效折射率和波分复用模块性能的影响。结果表明,刻蚀深度误差对模块性能优劣起关键作用。  相似文献   
4.
制作了带有U形隔热槽的马赫-曾德干涉型SOI热光可变光学衰减器,在1510~1610nm波长范围内动态调节范围可达到0~29dB.与未加隔热槽的相同结构光学衰减器相比,器件插入损耗和调制深度不受影响,最大功率消耗降低了230mW.  相似文献   
5.
低功率消耗SOI基热光可变光学衰减器   总被引:2,自引:2,他引:0  
制作了带有U形隔热槽的马赫-曾德干涉型SOI热光可变光学衰减器,在1510~1610nm波长范围内动态调节范围可达到0~29dB. 与未加隔热槽的相同结构光学衰减器相比,器件插入损耗和调制深度不受影响,最大功率消耗降低了230mW.  相似文献   
6.
增益平坦滤光片的设计   总被引:5,自引:1,他引:4  
分析了增益平坦滤光片的工作原理,提出其性能参数和指标要求,并以OIC2001的目标曲线为例,利用针法膜系自动设计并结合遗传算法和隧穿法等膜系优化设计方法,设计出与目标曲线基本一致的膜系结构。  相似文献   
7.
一个适用于光纤通信系统中的1×8多模干涉功率分束器被设计并通过ICP刻蚀方法成功研制.这种基于SOI材料的功率分束器是采用多模波导作为输入/输出波导;经过光束传播方法模拟,该器件显示出了优良的性能.测试结果表明,在1550nm波长处器件的传波损耗低于0.80dB,损耗均匀性为0.45dB,而且偏振相关损耗低于0.70dB.器件的尺寸只有2mm×10mm.  相似文献   
8.
低功率消耗、响应快速的SOI基可变光学衰减器   总被引:1,自引:1,他引:0  
采用绝缘体上Si(SOI)材料制作了马赫-曾德干涉型(MZI)SOI热光可变光学衰减器(VOA),利用隔热槽有效降低器件的功率消耗,提高响应速度。在1510~1610nm波长范围内动态调节范围可达到0~29dB。与未加隔热槽的相同结构光学衰减器相比,器件插入损耗和调制深度不受影响。最大衰减(29dB)时功率消耗由360mW降低为130mW,器件响应速度提高1倍,响应时间由大于100μs降为小于50μs。  相似文献   
9.
Monte Carlo simulations are adopted to study the electron motion in mixture of H2 and CH4 duruing diamond synthesis via Glow Plasma-assisted Chemical Vapor Deposition (GPCVD),The non-uniform electric field is used and the avalanche of electrons is taken into account in this simulation.The average energy distribution of electrons and the space distribution of effective species such as CH3,CH3^ ,CH^ and H at various gas pressures are given in this paper,and optimum experimental conditions are inferred from these results.  相似文献   
10.
提出并研制了一种级连WDM光纤耦合器的光纤光栅解调技术.静态和动态应力解调实验结果表明,相比于单级WDM耦合器的解凋方案,级连WDM耦合器解调系统的分辨率提高两倍且具有5nm的线性解调范围.该解调方案具有线性度好、信号处理简单、响应速度快等优点.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号