新一代低轨卫星网络和地面无线自组织网络融合技术的探讨

展示并验证了一种由新一代低轨卫星网络和地面无线自组织网络组成的星地一体化网络。此星地一体化网络中的低轨卫星网络可以提供大容量、低时延的网络覆盖,其"低轨"的特点又可减小地面终端的尺寸,增强地面网络的移动性。与经典的中轨和静止卫星网络相比,此种网络可以提供更高通量、更高移动性的通信支持,大大拓宽通信网络的应用范围。对不同的网络层次结构采用相应的软件仿真工具环境,为今后进一步深入研究卫星网络的体系结构和自组互联网技术起到了抛砖引玉的作用。     

WO3电变色材料的氢化技术研究

全固态电变色器件制作工艺复杂,氢化（或锂化）工艺是制备WO3电变色器件的关键技术。本文主要论述氢化工艺的制备方法、工艺过程及实验结果等。     

高靶材利用率的新型磁控溅射器

在现代大型薄膜连续生产线中 ,其生产效率主要受以下两因数的影响 :溅射器的沉积速率和靶材的使用周期。本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转 ,并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新型磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成 ,并给出实验结果与结论。其具有靶材利用率高、使用周期长、换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层 ,提高了溅射过程的稳定性。     

大型旋转圆柱形磁控溅射器

提出并研制成功了一种新型旋转圆柱形磁控溅射器。由于该溅射器采用静止的电磁场及匀速旋转圆简形靶材的新型结构，因此它具有靶材利用率高、使用周期长、换靶时间短等优点。可广泛适用于建筑物的幕墙玻璃等大型薄膜生产设备中。     

全固态电致变色器件工艺技术研究

提出一种新型结构与材料的全固态电致变色器件,及其氢化技术和制作工艺。在实验室中研制出2cm×2cm可重复转换、性能优良的电致变色器件,为大面积电致变色器件连续自动生产线的研制作了必要的技术准备。     

CuInSe2纳米颗粒膜的磁控溅射制备和特性分析

采用Cu,In,Se三元扇形复合靶,在玻璃基片上用射频磁控反应溅射技术制备CuInSe2(CIS)纳米颗粒膜.CIS颗粒的大小可通过改变溅射功率、基片温度和膜厚来调节.测量并讨论了所制备的CIS纳米颗粒膜的内部晶相结构、电阻率、导电类型以及光吸收等性质.     

无马达驱动的旋转圆柱形磁控溅射器

在大型薄膜连续生产线中,磁控溅射器的溅射速率、使用周期是影响生产效率与成本的重要因素.本文提出一种新型的无马达驱动的具有高溅射速率、高靶材利用率、长的靶使用周期、安装与使用简单的磁控溅射器.可广泛应用于各类大、中型连续生产设备中.     

基片和溅射参数对CuInSe2量子点的影响

用 Cu、In、Se三元扇形复合靶 ,采用射频磁控反应溅射技术 ,在低温 Indium Tin Oxide( ITO)透明导电基片上制备大面积均匀圆柱形 Cu In Se2 ( CIS)量子点。制备材料的化学计量比可通过三种单质的面积比率来调节。该制备方法具有成本低、操作简单、易于大型化等优点。平均量子点的大小可控制在 40到 80 nm之间 ,可通过改变溅射参数、ITO膜的晶相结构与表面形貌等因素来调节。     

用MonteCarlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布

在大型薄膜生产设备中,膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ 方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法,计算了靶的几何结构及各种溅射参数对膜厚横向分布的影响,并把计算结果与实际测量进行了比较。     

用Monte-Carlo法模拟大型磁控溅射器的膜厚分布

在大型薄膜生产设备中,膜厚的横向均匀性是一项重要指标。本文提出用Ｍｏｎｔｅ－Ｃａｒｌｏ方法模拟大型磁控溅射器膜厚横向分布的计算方法,计算了靶的几何结构及各种溅射参数对膜厚横向分布的影响,并把计算结果与实际测量进行了比较。