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1.
原子层淀积技术应用于太阳电池的研究进展
谢章熠
谢立恒
耿阳
孙清清
周鹏
卢红亮
张卫
《半导体光电》
2012,33(3):307-313,360
原子层淀积(ALD)是一种先进的纳米级薄膜生长技术,在微电子和光电子领域有着广泛的应用前景,尤其在提高太阳电池的光电转换效率方面正发挥越来越大的作用,很可能成为下一代太阳电池工艺中的重要方法。文章综述了近年来ALD技术在太阳电池领域的应用研究进展,详细介绍了ALD技术应用在不同类型太阳电池的最新研究成果和存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。
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