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1.
介绍了掺氧半绝缘多晶硅(O一SIPOs)及掺氮半绝缘多晶硅(N一SIPOS)薄膜的制备方法,生长条件及其在高可靠大功率开关三极管3DK106中的应用,以及主要电参数的测试结果,并且对本工艺所带来的特点进行了初步分析。
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2.
介绍了掺氧半绝缘多晶硅(O-SIPOS)及掺氮半绝缘多晶硅(N-SIPOS)薄膜的制备方法、生长条件及其在高可靠大功率开关三极管3DK106中的应用,以及主要电参数的测试结果,并且对本工艺所带来的特点进行了初步分析。
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