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在湿法刻蚀的工艺过程中,影响刻蚀速度和刻蚀效果的元素有很多,温度是其中一个关键因素,所以在湿法刻蚀设备研制中对温度精度的控制成为重要技术之一。使用基于遗传算法的PID控制方法来实现对温度的控制,进行仿真以及和传统PID控制比较,在实际应用中得到了很好的结果。  相似文献   
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阐述了制造半导体器件的晶圆在清洗过程中的高洁净度自动烘干环节的重要性,介绍了旋转式晶圆自动干燥装置的结构原理,设计并实现了适合于工业化生产的晶圆自动干燥装置,满足了半导体生产企业对晶圆表面的烘干要求。  相似文献   
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介绍了蓝宝石晶片的清洗原理:通过分析蓝宝石的表面净化原理和对湿法腐蚀清洗工艺试验的研究,提出了一种适用于工业化生产蓝宝石晶片的清洗剂和净化工艺,满足了LED领域的蓝宝石晶片表面洁净度要求。  相似文献   
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