氮分压对CrNx薄膜相结构与力学性能的影响

ＣｒＮｘ 薄膜具有很高的硬度和耐磨性 ,其高温抗氧化性和耐腐蚀性优良 ,不但可作为耐磨涂层用于工模具和切削工具的表面强化 ,而且在表面防腐和装饰等许多工业领域也有重要用途[1] 。同已经得到广泛工业应用的ＴｉＮ薄膜相比 ,ＣｒＮｘ 薄膜的硬度更高 ,而且具有比ＴｉＮ更好的耐腐蚀性能[2 ] 。ＣｒＮｘ 薄膜溅射产额比较高 ,有利于大批量的工业生产 ,更具有实用价值[3 ] 。ＣｒＮｘ 薄膜采用ＳＰＣ 35 0多功能磁控溅射仪制备。在射频阴极 (ｒ .ｆ.)上安装纯Ｃｒ靶 (99 99% )作为溅射材料 ,高速钢基片经 1μｍ金刚石研磨膏抛光后 ,用丙酮…     

两步压入法--薄膜力学性能的可靠测量方法

提出了采用力学探针测量薄膜力学性能的两步压入法.该方法通过大载荷压入展示基体变形对薄膜硬度的影响,从而选择不影响基体变形的小载荷测出薄膜的硬度和弹性模量.对高速钢基片上的TiN硬质薄膜,单晶硅片上的金属Ni薄膜和(Ti,Al)N/VN纳米多层膜的测量表明,两步压入法能够测出各种性质薄膜的力学性能,并且具有准确可靠的特点.此外,两步法对(Ti,Al)N/VN纳米多层膜的力学性能的测量表明,该体系的纳米多层膜存在硬度和弹性模量异常升高的超硬、超模量效应.     

津西集团热轧钢板桩生产与市场前景探讨

围绕津西集团（河北津西钢铁集团股份有限公司）引进阿赛乐钢板桩轧制技术,结合亚洲区域工程特点,在探讨具有津西特色的产品生产、研发之路的同时,分析国产热轧钢板桩的应用与市场前景。     

NbN薄膜的反应磁控溅射沉积

ＮｂＮ具有较高的临界电流密度 ,较高的临界超导转变温度和良好的力学性能 ,在微电子 ,传感器 ,微机械 ,超导电子学和表面强化领域等方面有广阔的应用前景[1] 。ＮｂＮ薄膜具有高硬度 ,高耐磨性 ,耐腐蚀性[2 ] 和良好的热稳定性[3 ] ,使其成为一种重要的表面涂层材料。本文研究了氮分压对磁控反应溅射ＮｂＮ薄膜微结构和力学性能的影响。ＮｂＮ薄膜在ＳＰＣ 35 0多靶磁控溅射仪上制备 ,采用射频阴极 ,纯Ｎｂ(99 9% )靶作为Ｎｂ材料来源 ,溅射室背底真空为 5× 10 -4Ｐａ ,采用Ａｒ Ｎ2 混合气体进行反应沉积 ,其中Ａｒ分压为 0 3Ｐａ ,Ｎ2 …     

Nb—Si—N混合薄膜的HRTEM观察

Ｖｅｐｒｅｋ等[1] 在ＴｉＮ薄膜中加入Ｓｉ形成的由非晶Ｓｉ3 Ｎ4分隔的纳米晶ＴｉＮ薄膜 (记为ｎ ＴｉＮ ａ Ｓｉ3 Ｎ4) ,呈现出超高硬度而成为近年来超硬薄膜的研究热点之一。ＮｂＮ薄膜具有很高的硬度 ,高的耐磨性 ,耐腐蚀性[2 ] 和良好的热稳定性[3 ] 。ＮｂＮ薄膜中添加Ｓｉ元素也是改善其性能的途径之一。为了深入地研究Ｓｉ对ＮｂＮ薄膜微结构和力学性能的影响及其机理 ,本文采用多靶磁控反应溅射的方法制备了Ｎｂ Ｓｉ Ｎ系混合薄膜 ,研究了Ｓｉ在Ｎｂ Ｓｉ Ｎ系薄膜中的存在形式 ,及其对薄膜的微结构和力学性能的影响。实验所用Ｎ…     

地铁盾构施工中盾构姿态的控制方法

为使地铁工程发展迅猛前进,不仅需要依靠国民经济以及科学技术水平的提升,更需要紧随时代和社会的进步进行研究。对此,众多的地铁工程修建人员对其研究方向也明确了研究方向和研究力度,其中,地铁施工的盾构机姿态控制就是一大研究要点。同时,这也将作为本文的主要研究阐述内容,希望能够对地铁施工中的盾构机姿态控制水平及方法有所提升和帮助。     

磁控溅射B4C薄膜的制备与力学性能

通过磁控溅射方法在不同基片温度下制备了B4C薄膜 ,利用傅立叶红外光谱、X射线衍射、透射电子显微镜表征了薄膜的微结构 ,并采用纳牛力学探针测量了薄膜的力学性能。结果表明 ,室温下制备的B4C薄膜具有很高的硬度 ( 4 2 5GPa)和杨氏模量 ( 3 0 0GPa) ,薄膜呈现非晶或纳米晶特征。随基片温度的提高 ,薄膜略有晶化 ,硬度与杨氏模量相应增加到5 0 4GPa和 4 2 0GPa。     

力学探针两步压入法研究(Ti,Al)N/AlN纳米多层膜的超硬效应

提出了采用毫牛力学探针技术对硬质薄膜的硬度和弹性模量等力学性能进行准确测量的两步压入法，并用此方法研究了（Ti,Al）N／AlH纳米多层膜的硬度和调制周期之间的关系。结果表明，该纳米多层膜体系的硬度和弹性模量随调制周期的减小单调增加，并在调制周期为1.3nm时达到最高值HV＝29.0GPa和E＝383.0GPa，表明（Ti,Al)N/AlN纳米多层膜存在超硬度和超模量效应。     

基片温度对Cr薄膜微结构和力学性能的影响

由于具有高硬度 ,良好的耐磨性和抗腐蚀性 ,由电化学过程制取的硬Ｃｒ涂层已经大量用于工程构件和光学、表面装饰等领域中。近年来 ,微机械技术迅速崛起 ,成为高技术发展的重要方向之一 ,使Ｃｒ薄膜有了更广阔的应用前景。目前采用ＰＶＤ方法代替电化学沉积来制备Ｃｒ薄膜的工艺受到越来越广泛的重视[1] ,已有不少工作研究了气相沉积Ｃｒ薄膜的工艺及其性能[2 ] 。本文研究了基片温度对磁控溅射Ｃｒ薄膜的微结构和力学性能的影响。Ｃｒ薄膜采用ＡＮＥＬＶＡＳＰＣ 35 0多靶磁控溅射仪制备。单晶硅基片经丙酮超声清洗、酒精脱水后送入真空室…     

磁控溅射CrNx薄膜的制备与力学性能

采用反应磁控溅射法在不同的氮分压下制备了一系列CrNx薄膜，并利用EDS和XRD表征了薄膜的成分和相组成，采用力学探针测量了薄膜的硬度和弹性模量。研究了氮分压对薄膜成分，相组成和力学性能的影响。结果表明，随氮分压的升高，薄膜的沉积速率明显降低，薄膜中的氮含量量增加，相应地，相组成从Cr Cr2N过渡到单相Cr2N,再逐步经Cr2N CrN过渡到单相CrN,并在Cr:N原子比为1：2和1：1时，薄膜的硬度出现极值（HV27．1GPa和HV26.8GPa),而薄膜的弹性模量则在Cr2N时呈现350GPa的最高值。