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利用射频磁控溅射法结合后期退火处理,在Si(100)基片上制备了一系列的(La2/3Ba1/3)(Cu0.15Mn0.85)O3(LBCMO)薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描隧道显微镜(STM)、X射线光电子能谱(XPS)、标准四探针法等手段对薄膜进行了相结构、微结构特征、表面化学状态以及室温与液氮下的磁电阻随磁场变化特性等的测试,结果表明薄膜在750℃就已形成正交钙钛矿结构,900℃时晶相变得更加完整,晶体内部各部分变得更加均匀.随着退火温度的升高,晶粒迅速长大,颗粒间的氧空位逐渐消失,晶格氧含量增加,促使低场磁电阻增强明显. 相似文献
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