日本真空工业

本文详细介绍了日本近几年来一般真空获得设备、无油真空系统和真空应用设备的最近进展，并指出由于日本半导体和ＬＣＤ（液晶显示）产业的迅速发展带动了日本整个的真空工业，使日本的真空产品出现了更新换代的局面     

我国真空工业的现状与发展

本文论述了我国真空泵生产技术方面的最新进展，并指出了我国真空泵在产品品种和综合性能质量与国外先进水平相比存在的差距。本文还介绍了我国真空技术在国民经济领域中的应用，并提出了我国真空工业今后的发展方向。     

现代超高真空获得技术的水平与发展

自从1950年Bayard-Alpert电离计发明以来,真空技术逐步向超高真空领域推进。特别是现代科学技术──原子能、电子计算机和空间技术的发展,又进一步促进了超高真空技术。 旱期获得超高真空的主要手段是油扩散泵系统,但是这种泵的工作液是污染系统的主要来源。现在有许多场合对真空的要求不但是“量”而更重要的是“质”,即“清洁”的超高真空。近十几年来,国内外在减少油蒸汽污染方面有很大进展。如美国Aero真空公司的Santeler用“ 6”油扩散泵 (对N2抽速为 1500升/秒)加上12”的液氮升华阱使极限压强达到 10-14托,油蒸汽分压小到可测下限(…     

HCD法工具离子镀设备的研究

ＴｉＮ镀膜刀具的质量主要取决于涂层的耐磨性、附着强度、均匀而合理的涂层厚度。为了制备高质量的涂层刀具，除了刀具本身的质量和前处理外，镀膜设备的性能以及工艺参数是个关键。本文是根据我们多年来在ＨＣＤ设备和工艺方面的试验研究经验，论述了工业生产型ＨＣＤ设备的技术性能、结构特点、工艺参数、以及ＴｉＮ镀膜刀具的切削性能等。     

超高真空获得与测量──七五年北京“西德工展”真空技术部分简介

参加真空技术部分的展出单位主要是:莱伯尔德·黑罗依斯(LEYBOLD-HERAEUS)公司。它是最早从事生产真空设备的工厂,至今已有七十年的历史。现·在的莱伯尔德·黑罗依斯公司是在1967年由莱伯尔德公司与黑罗依斯公司合并而成。该公司在西德有二个工厂,一个在科伦(COLOGONE),一个在汉瑙(HANAU)。两厂共有3000人,其中10%为科学研究人员。 科伦厂主要生产各种真空泵、真空间、真空机组以及真空计、检漏仪、剩余气体分析仪和表面分析仪等。 汉瑙厂主要生产真空应用设备。其中有真空镀膜、浸渍、蒸馏、干燥、冶炼、核能和电子束焊接等设…     

采用空心热阴极放电方法物理气相沉积铬和钛的氯化物

采用空心热阴极放电(HCD)方法实行了铬和钛的氨化物的反应离子镀,研究表明沉积在基体上的硬度是温度施加于基体的偏压和氮气分压的函数。 为了使放电维持在 1.5 × 10-3托的水平,通过电子枪向容器引入 30cm3(STP)min-1的氩流量,这个枪是由内径为4mm的钽管制成,管的壁厚为0.5mm,长为80mm。 当放进氢气时,对于CrN沉积速率大约是 0.27μm min-1,对于钛的氨化物大约是0.18μm min-1,这个 HCD电子束不会在Cr中造成一个局部的蒸发坑。 在10-4～10-2托压强下对Cr和 Ti 的氨化物的沉积进行了研究,沉积在不锈钢基体上的氨化铬其 VHN硬度约为 2…     

干式螺杆真空泵的结构、性能与应用

本文首先介绍了螺杆真空泵的结构、性能、技术参数以及使用中的注意事项。同时还对螺杆真空泵与罗茨型干泵、爪式干泵在气路和抽速特性方面进行了比较。最后讨论了螺杆真空泵在制药行业溶媒回收、石化行业汽油蒸汽回收以及空间模拟方面的应用。     

真空泵的计算

真空泵按工作原理来划分，基本上可以分为气体输送型和气体捕集型两大类。     

ITO膜生产技术的新进展

用溅射的方法来制备ＩＴＯ膜已应用于平板显示技术，特别是高速磁控溅射技术的出现，又使ＩＴＯ膜实现大量生产成为可能。本文详细论述了ＩＴＯ膜生产线的设计要点，总体方案及其技术性能，并分析了各种工艺参数对ＩＴＯ膜的透光率、面电阻等主要技术指标的影响。     

ITO膜透明导电玻璃的应用前景及工业化生产

本文综述了ＩＴＯ膜透导电玻璃的应用前景，列举了当前国内外市场现状及预测。透明导电玻璃是液晶平板显示器（ＬＣ）的主要材料，ＬＣＤ顺应时代的潮流，作为人机接口产品将获得比半导体产业更大的增长率。日本达到了３８％。９０年代由于信息高速公路和多媒体的发展迎来了ＬＣＤ时代。作者列举了ＩＴＯ膜透明导电玻璃的应用实例和镀膜工艺，以及适用于工业化生产设备。认为，作为批量生产，连续直流磁控溅射是当前理想设备。它可以克服产品质量的不均匀性、不稳定性，可实现自动化生产，而且完全有条件实现设备主机国产化．机械部沈阳真空技术研究所，９３年以来已先后成功的研制了两条生产线，镀出的ＩＴＯ膜透明导电玻璃指标完全达到了国外同类产品水平。