排序方式: 共有4条查询结果,搜索用时 18 毫秒
1
1.
2.
3.
本文介绍我们最近研制的一种硅基集成微马达。其制作工艺非常简单,仅包括四次光刻,两次多晶硅薄膜淀积和两次SiO2牺牲层淀积。实现了快速、方便及批量地制作测量分析用的微马达样品。该微马达转子和定子由厚度为2.5μm左右的LPCVD多晶硅膜一次形成,因而转子与定子的间距可减小到1.0 ̄1.5μm。 相似文献
4.
1