首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   10篇
  免费   2篇
  国内免费   4篇
化学工业   1篇
金属工艺   3篇
一般工业技术   11篇
自动化技术   1篇
  2016年   2篇
  2013年   2篇
  2012年   2篇
  2008年   1篇
  2006年   2篇
  2005年   1篇
  2000年   2篇
  1999年   4篇
排序方式: 共有16条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
通过B2O3MgC 体系的自蔓延高温还原反应, 成功地制备出了B4C 粉。由于Mg 的高挥发性, Mg 与B2O3 的反应受到环境气压的影响。低压下燃烧时, 由于Mg 的挥发造成燃烧温度低于B 的熔点, 生成的B4C 颗粒尺寸约0 .4 μm 。10 MPa 下反应物的挥发受到抑制, 使燃烧温度达到或超过硼的熔点, 生成的B4C 颗粒尺寸约5μm 。在100 MPa 下, 由于氩气的热导率增加, 使得热损失增加, 造成燃烧温度反而较10 MPa 下有所降低。燃烧温度曲线在硼熔点附近出现的等温线证实了分步反应机理的存在  相似文献   
2.
自蔓延还原合成BN反应机理   总被引:4,自引:1,他引:3  
结合差热分析,通过研究B2O3和Al在不同温度下的反应以及在不同氮气压力中的自蔓延实验,搪塞了B2O3-Al-N2体系自蔓延还原合成BN的反应机理。结果表明:铝热还原B2O3的反应是一个分步过程,低于820℃时,B2O3与Al2缓慢反应生成Al4B2O3;高于820℃时,B2O3与Al剧烈反应生成Al4B2O9;高于1050℃时,Al与在低温生成的Al4B2O9反应生成Al18B4O33;在更高的  相似文献   
3.
分别采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同含硼量四面体非晶碳(ta-C:B)膜, 并用X射线光电子能谱(XPS)、Raman光谱对薄膜的微观结构和化学键态进行了研究. XPS分析表明薄膜中B主要以石墨结构形式存在, 随着B含量的增加, sp3杂化碳的含量逐渐减小, Ta-C:B膜的Raman谱线在含硼量较高时, 其D峰和G峰向低频区偏移, 且G峰的半峰宽变窄, 表明B的引入促进了sp2杂化碳的团簇化, 减小了原子价键之间的变形, 从而降低了薄膜的内应力.  相似文献   
4.
气压对自蔓延高温还原合成B4C的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
通过B2O3-Mg-C体系的自蔓延高温还原反应,成功地制备出B4C粉。由于Mg的高挥发性,Mg与B2O3的反应受到环境气压的影响,低压下燃烧时,由于Mg的挥发造成燃烧温度低于B的熔点,生成的B4C颗粒尺寸约0.4μm。10MPa下反应物的军发受到抑制,使燃烧温度达到或超过硼的熔点,的B4C颗粒尺寸约5μm在100MP下,由于氩气的热导率增加,使得热损失增加,造成燃烧温度反而较10MPdisplay status  相似文献   
5.
通过自蔓延高温合成结合准热等静压法(SHS/PHIP)制备出了致密度为97.7%的TiC-Al2O3-20Fe金属陶瓷(TAF20)。分析了金属陶瓷的相组成、微观组织及性能。结果表明:金属陶瓷由TiC,Al2O3陶瓷颗粒和Fe粘结相组成;粘结相中Fe与Al2O3之间的界面光滑,与TiC之间有一薄的扩散层;TAF20金属陶瓷的抗弯强度和抗压强度分别为890MPa和18.4GPa。  相似文献   
6.
用于GaN基发光二极管的蓝宝石图形衬底制备进展   总被引:2,自引:0,他引:2  
近几年, 图形化蓝宝石衬底因其作为GaN基发光二极管外延衬底, 不仅能降低GaN外延薄膜的线位错密度, 还能提高LED的光提取效率而引起国内外许多科研机构的广泛研究兴趣. 本文综述了图形化蓝宝石衬底提高GaN基发光二极管性能的作用机理, 重点评述了目前图形化蓝宝石衬底的制备方法(湿法刻蚀、干法刻蚀、固相反应)和图形尺寸(微米图形化、纳米图形化), 分析比较了不同制备方法和图形尺寸制备蓝宝石图形衬底对GaN基发光二极管性能改善, 最后针对蓝宝石图形衬底制备存在的问题对其今后的发展方向做出展望.  相似文献   
7.
MgO—B4C自蔓延高温合成的反应机理   总被引:2,自引:0,他引:2  
对B2O3-Mg-C体系和B2O3-Mg体系不同加热速率下的DTA曲线进行了分析。发现B2O3-Mg-C体系的自蔓延高温反应中,温度略低于650℃时Mg与B2O3发生强放热反应,释放出单质B;然后中间态B与C通过固态扩散反应生成B4C。  相似文献   
8.
采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同硼含量的掺杂四面体非晶碳薄膜(ta-C:B)。使用椭偏仪和紫外-可见光分度计测试了薄膜的折射率、消光系数、透过率和反射率。结果表明,硼含量小于2.13%时,硼含量增加,薄膜折射率缓慢增大;消光系数基本保持不变。当硼含量继续增加到3.51%和6.04%时,折射率分别迅速增加至2.65和2.71,相应的消光系数增大至0.092和0.154;而薄膜的光学带隙从2.29eV缓慢减小至1.97eV,后又迅速降至1.27eV。同时ta-C:B膜的透过率逐渐减小,反射率逐渐增大,表明硼的掺入降低了薄膜的透光性能。ta-C:B膜光学性能的变化,除了与sp3杂化碳的含量有关外,还取决于薄膜中sp2杂化碳的空间分布特点。  相似文献   
9.
地质聚合物合成中铝酸盐组分的作用机制   总被引:1,自引:0,他引:1  
在对铝、硅酸盐离子团中离子的部分电荷计算的基础上,研究了铝组分在地质聚合物合成中的作用机制,并通过实验进行了初步验证。研究表明:铝组分对地质聚合物的合成中缩聚反应有显著的促进作用,因而在合成地质聚合物时原料中铝组分的溶解性至关重要。实验结果表明:由具有较小颗粒度的煅烧高岭土为原料合成的地质聚合物具有较短的固化时间,更均匀的显微结构和更高的机械强度。如由较粗的煅烧高岭土为原料合成的地质聚合物的抗压强度为54MPa,而由较细的煅烧高岭土为原料合成的地质聚合物的抗压强度则能达到74MPa。  相似文献   
10.
采用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了掺铝ZnO透明导电薄膜(AZO)。为了降低AZO薄膜的电阻率, 采用在溅射气氛中通入一定比例H2的方法对AZO薄膜进行氢化处理, 并研究了溅射气氛中H2含量及衬底温度对AZO薄膜氢化效果的影响。结果表明: 在低温条件下, 氢化处理能有效降低AZO薄膜的电阻率; 在衬底温度为100℃的低温条件下, 通过调节溅射气氛中H2的比例, 制备了电阻率为6.0×10-4 Ω·cm的高质量氢化AZO薄膜, 该电阻值低于同等条件下未氢化AZO薄膜电阻值的1/3; 但随着衬底温度的升高, 氢化处理对薄膜电学性能的改善效果逐渐减弱。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号