排序方式: 共有6条查询结果,搜索用时 281 毫秒
1
1.
2.
3.
4.
5.
6.
改进的挥硅-ICP-MS法测定高纯四氯化硅中金属杂质 总被引:1,自引:0,他引:1
本文对钛厂回收副产物高纯四氯化硅中的9种金属杂质进行了测定。采用密封针管取样,转移塑料挥气瓶中,恒温水浴锅控制温度(57℃)通入干燥惰性气体(N2),在塑料挥气瓶挥去基体四氯化硅,富集的金属加入硝酸转变成溶液后定容,用电感耦合等离子质谱法(ICP-MS)直接测定其中Pb、Zn、Mn等9种微量金属杂质。用Rh做内标元素补偿基体效应和灵敏度漂移。样品的加标回收率为98.15~102.0%,相对标准偏差(RSD)为0.9%~3.5%,检出限为0.009~0.05μg/L。 相似文献
1