HT-7托卡马克限制器温度数据的快速采集与管理方案

针对HT-7超导托卡马克实验的具体要求，对与等离子体直接接触的限制器表面温度实现了快速监测与存储、介绍了该微弱信号采集系统的具体实现方法与抗干扰措施。重点论述了一种基于VB6．0、组态软件、DDE(动态数据交换)及ODBC(开放数据库联接)技术的有效、灵活的采集方案．实现了实验数据的高频记录、按次自动存储和快速查询。     

等离子体装置器壁的直流和高频辉光放电清洗

本文描述直流辉光放电、10兆周高频加直流辉光放电原理和实验方法。给出了几种工作气体(H_2,He,Ar,N_2和空气)在30升圆筒形真空室中进行直流辉光放电、直流加高频辉光放电时起辉和灭辉气压随外加电压变化实验结果。实验表明,对于几百伏外加电压下H_2,He,Ar气可在10~(-1)帕气压下起辉;可以维持到10~(-2)帕气压才灭辉。几百伏直流电压附加10兆周高频电源可使起辉气压和灭辉气压下降几倍。空气和氮气比氢更易起辉。对HT-6M托卡马克真空室进行了几十小时常温和100℃中温烘烤条件下辉光放电清洗效果比较,表明边烘烤边辉光放电对水的清洗作用更好。实验由四极质谱仪监测,并用真空传输装置将样品传送到俄歇谱仪中分析放电前后表面成分的变化。对放电有关问题进行了讨论。     

HT-7U超导托卡马克装置低温杜瓦的真空问题

分析了HT－7U大型全超导托卡马克装置低温杜瓦内的真空状况，对影响真空指标至关重要的磁体主机氦泄漏漏率作了计算，介绍了在试验杜瓦成功实现超导磁体正常运行的真空调试与检漏实践。     

Control System of Pellet Injector on the HT-7 Tokamak

1. IntroductionHefei tokamak:7 (HT-7) is a super-conductingtokamak device which was rebuilt from the originalRussian T-7 tokamak in 1994. Recently a feedbackcontrol system to simultaneously control plasma current, density and displacement has been developedon the HT-7 and put into daily operation. HT-7with R = 1.22 m, a = 0.26 ~0.30 m has afstainless steel liner, and two immovable and two movablestainless steel liciters (including a movable liciter)with molybdenum tips. There are two layer…     

各种实用真空工程材料的出气率测试

本文简要叙述小孔流量法测量材料出气率实验原理和实验装置。给出了无氧铜、不锈钢和低碳钢等十多种材料的常温出气率实验结果,探讨了各种加工工艺和清洗工艺对材料出气率的影响。     

HT－7装置首次超导调试过程中的残气质谱分析

本文给出ＭＸ７３０４Ａ单极质谱计在ＨＴ－７装置首次低温超导调试过程中的应用。介绍进行残气质谱分析的目的，方法和采用的差分抽气质谱分析系统；给出装置调试过程中常温和低温状态下残气谱图；根据残气成分的分析和真空测量综合评价装置的真空状况。并利用质谱分析系统作为检漏手段     

HT-7超导托卡马克装置真空系统参数的标定及分析

主要介绍HT-7超导托卡马克装置真空系统参数的标定和分析.在有无低温泵工作条件下,分别测量了HT-7真空系统对氢气、氘气、氦气和氮气的抽速曲线.分析包括器壁吸附等因素对HT-7真空系统不同气体抽速的影响.同时简单分析了在不同情况下,装置真空分布情况,为实现HT-7装置气体平衡提供参考.讨论和测量如何利用质谱计来分氦和氘.通过气体平衡比较准确的测量了装置体积.     

HT-7超导托卡马克真空运行的安全保护

根据HT-7托卡马克装置所处不同阶段对真空的要求不同，介绍该安全保护系统如何构建以满足不同阶段的需要。重点论述了在真空运行的各个阶段，需要监测的真空参数以及如何根据这些参数实现安全保护的。最后介绍该系统如何协同工作、保证实验顺利进行以及目前该系统的实际运行情况。     

HT—7超导托卡马克第一壁He辉光硼化实验研究

为了降低聚变等离子体杂质的含量,改善等离子体性能,对HT-7进行了射频辅助的氦气直流辉光放电硼化.硼化后,等离子体参数提高,等离子体行为明显改善.由此证实了硼化为HT-7稳态运行提供了良好的壁条件.     

HT-7超导托卡马克第1壁B/C膜吸O性研究

通常在托卡马克第1壁沉积1层B膜,以降低托卡马克等离子体的O杂质。在HT-7第1壁位置处放了几个石墨样品,它们与HT-7一起硼化。硼化后取出部分样品膜,剩余样品留在真空室接受聚变等离子体的轰击。对鲜膜和轰击膜进行XPS分析,发现在成膜过程中B膜开始吸O;等离子体轰击时,B膜进一步吸O。O在膜中与B以化合态B2O3形式存在。并对实际中存在的一些问题进行了探讨。