浅析Html5与Flash的发展趋势

本文对Html5与Flash的现状、Html5与Flash平台的优缺点等方面进行了分析,并展望了这两种技术的市场前景与发展潜力：基于互联网技术以及设备的现状,Flash与Html5技术还将在今后一段时间内共存,它们是互补的,而非替代。     

声子极化激元干涉条纹周期的精密测量研究EI北大核心CSCD

二维材料由于其独特的物理化学性质,对纳米光子学及光电子学的应用与发展具有重要研究价值。特别是二维材料中声子与光子耦合激发产生的声子极化激元高度局域在纳米尺度,在片上光子学的光学操控和能量传输等前沿研究领域具有极大的应用潜力。同时,光电器件制造进入纳米节点,器件应用对材料表征精度具有纳米级的要求。然而目前对声子极化激元特性分析的关键之一在于测量其干涉条纹周期,测量结果准确性依赖于仪器设备校准。因此,为实现对声子极化激元干涉条纹的精确测量,文中提出构建铬原子自溯源型光栅与二维材料的复合结构,分析金属光栅结构周期性变化对二维材料的声子极化激元耦合增强与调制作用,以及基于该原理实现对声子极化激元干涉条纹周期的精密测量。研究实现了测量干涉条纹周期为(261.01±0.34)nm的亚纳米级高精度测量,相比具有不确定度为4 nm的传统拟合测量方式具有可溯源的计量精度,同时实现了对测量仪器的亚纳米级精密校准。自溯源光栅天然溯源至基本自然常数的特性使得测量结果具备极好的准确性和可靠性,为二维材料在微纳光子学器件领域的应用提供了保障。     

基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法研究

建立了一种基于Cr原子光刻技术的nm光栅间距比对测量定值方法。以国家自溯源光栅标准物质来建立标准样板校准溯源体系的可行性为基础,保障测量仪器更高精度、可溯源性;设计并制备了节距长度有序递增的多周期电子束直写光栅样板,满足可适配于不同分辨率的nm测量仪器的需求,名义节距值分别为200、400、600、800、1 000 nm。经国家自溯源光栅标准物质比对后的AFM完成对nm栅格标准样板的测量与表征,实验表明：电子束直写制备的光栅标准样板均匀性水平1 nm,相对不确定度低于2%,光栅均具有良好的均匀性、准确性以及稳定性,验证了研制的光栅标准样板能作为一种理想的实物标准运用于nm几何量量值溯源体系。     

川江上的码头

川江是长江上的黄金水道,支流密如蛛网,其中最大的有岷江、沱江、嘉陵江和乌江。川江江水长流,数千年来承载着其两岸、其上下不尽的客流、物流与信息流,在江的两岸形成了与之息息相关、独具特色的码头和码头文化。码头如珍珠撒在青山碧水之间,构成一张巨网,在整个流域起着通有无、传信息、兴经济、成文化的作用。     

稳压电源在故障判断中的妙用

通常我们给故障手机用稳压电源供电时，电流的反应是不同的．这些表现往往可以大致判断故障范围。     

取水泵房机组在运行中出现的问题及解决方法

扬州头桥水厂取水泵房一期安装了4台立式混流泵,水泵机组供水规模为22×104m3/d,自2010年5月投产以来,平均半年就要大修一次,水泵在运行过程中表现为喘振、震动、噪声,每次检修都要更换赛龙轴承。2015年3月开始对水泵叶片、基础、轴承等进行优化改造,2016年4月改造完成。现在,每台水泵连续运行时间超过了5 000 h,运行平稳,达到了预期的目的。     

烟气脱硝CAM智能控制系统的研发与应用

<正>0引言烟气脱硝是水泥生产中重要的环保措施,根据GB 4915—2013《水泥工业大气污染物排放标准》规定[1],自2015年7月1日起所有水泥企业氮氧化物排放限值为400mg/m3(标态,下同)、氨排放限值为10mg/m3。目前主流脱硝技术为选择性非催化还原工艺(SNCR),还原剂为氨水。脱硝装置一般都实现了DCS控制,但PID自动控制效果较差,导致大多数企     

蜀锦文化初探

蜀锦因产于蜀地而得名.把织锦工人集中起来,由锦官进行管理,久而久之,成都又有了另外一个名称--"锦城"或者"锦官城";供锦官们南来北往居住的客栈,被称为"锦官驿".它坐落在成都城区内东南部锦江边上的九眼桥畔.由于古代成都人常在南河中洗濯彩锦,洗后的彩锦色彩比原先更加艳丽,濯锦江便由此得名.     

基于AFM氮化硅探针刻蚀方法制作聚碳酸酯纳米光栅

基于原子力显微镜(AFM)探针的纳米机械刻蚀技术以其成本低、分辨率高的优势被广泛应用于各种纳米元器件的制造中.为了得到最优的光栅结构,首先通过单次刻蚀实验定量分析了刻蚀方向、加载力和刻蚀速率等3个主要加工参数对所得纳米沟槽形貌和尺寸的影响,给出了普通氮化硅探针对聚碳酸酯(PC)的加工特性及加工效率.然后通过改变沟槽间距(100~500 nm)得到了不同周期的纳米光栅结构,并确定了这种探针与样品的组合对间距的要求及最佳加工参数:沿垂直于微悬臂长轴向右刻蚀,加载力2.3μN,刻蚀速率2.6μm/s.最后利用该技术对实验室已有原子光刻技术所得周期为213 nm的一维Cr原子光栅结构进行了复制加工,得到了均匀的213 nm一维光栅,证明这种基于AFM探针的纳米机械刻蚀技术可被广泛应用于纳米加工.     

原子纳米光刻中双层光学掩膜的实现方法研究

利用原子光刻的方法制备纳米结构的光栅已经成为了一种较为成熟的工艺。通过原子与激光驻波场的相互作用,利用原子自生在势能场中的偶极力对原子的密度进行调制,从而得到所需要的光栅结构。利用此种工艺所制备的光栅相对于传统工艺来说具有精度高,光栅常数直接溯源于原子能级。希望能够通过对激光的改良来提升原子沉积结果。通过双层驻波场来提高原子沉积质量已经被多次提到。实验中利用几何光学的方法实现了所需要的新型激光驻波场。并对其汇聚,相干等特性进行了研究,取得了较为满意的结果。为利用双层驻波场来沉积原子打下了基础。