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郑文汀  程树英 《真空》1994,(2):17-20
本文用表面能、界面能来说明真空蒸镀薄膜与基材的吸附机理。如薄膜与基材间的界面能越低,说明其键合越强,附着越牢固。基材表面事先经离子轰击或等离子处理形成的结构缺陷,将有利于降低界面能,增强附着力。  相似文献   
2.
3.
本文用计算机对三台国产镀膜机的膜厚分布进行计算,分析了膜厚均匀产生的主要原因;提出了利用计算机帮助寻找蒸发源的最佳排列,以获得在所要求的基材宽度内的最佳膜厚分布。讨论了真空度对膜厚分布的影响,并提出了膜厚分布的修正公式。  相似文献   
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