电源对介质阻挡放电(DBD)激发准分子(XeCl*)辐射的影响

本文对电源参数如电压幅值、频率及正负电压对介质阻挡放电激发准分子XeCl 紫外 (30 8nm)辐射的影响进行了实验研究。结果表明 ,UV辐射随电压幅度的增加而增强 ,但效率下降 ;提高频率 ,增加了放电次数 ,导致UV辐射的增强 ;此外 ,在较高的频率下 ,电压上升沿变陡 ,使得电子获得的能量主要用于原子的激发和电离。正、负电压放电的不对称源于电极结构的不对称而引起的放电过程的差异 ,负电压内电极可向放电管中馈入更多的能量 ;比较发光光谱可判断生成准分子的等离子体化学过程没有明显的差别     

真空波导磁场控制型ECR溅射法的实验研究

微波电子回旋共振（delectroncyclotronresonance．ECR）等离子体溅射法是能在低温下制备高质量薄膜的最新镀膜技术．在该技术中,微波输入窗口易受金属粒子污染,导致微波在窗口反射,从而影响装置的正常工作。本文初步探讨了在ECR溅射装置中．采用真空波导与共振腔连成一体,在连接处配置磁轭（纯铁）．通过改变共振腔与波导连接处的磁场分布,能有效的避免微波窗口污染的技术途径,并较细致的研究了该装置的放电特性。     

单级线圈加速电枢的机理分析

较为详细的分析了单级线圈两种不同加速方式的机理，最后给出了与之相对应的实验结果。     

Study of SiO_2 Films Prepared by Electron CyclotronResonant Microwave Plasma

1.IntroductionInoptIcaltelecommunlcatlons,ltisnecessarytodevelopoptlcalfibresystemswithhighertransmls-sionefficlencyandnetworkflexlblllty.Todate,hott'-ever,theyhavebeenfarfromreallzation,baslcallybecauseofdifficultiesinprocessesoffabricatingpla-naropticalwaveguidesanddeviceswithlowbendandtransmlsslonlosses[l1.Whicharedirectlyre-liedonopticalwaveguidefilmperformancesuchashighrefractiveindexandlowsurfaceroughness.Assilicafilmsarecapabletobedepositedoncrystallinesiliconsllbstrateandfurtherformac…     

射频ICP离子源设计研究

本文介绍了射频 (RF)感应耦合等离子体 (ICP)离子源的设计研究。对RFICP的结构、离子流的引出以及离子流的均匀性、中性化和射频匹配网络进行了研究。     

微波ECR等离子体物理汽相沉积研究和应用

研究了用微波电子回旋共振(ECR)技术蒸发镀Ti膜、Cu膜。沉积速率达50.0nm/min左右,基片温度50～150℃。获得了附着力强的非晶态模层,进行了ECR溅射镀膜。采用较高的等离子体密度、电离度及负的基片电位,制作了Y-Ba-Cu-O超导薄膜。该膜层致密,呈非晶态,膜厚1.0μm,沉积速率达10.0nm/min。结果表明,ECR等离子体沉淀技术是能够在低压下产生高密度、高电离度的等离子体,这种等离子体是薄膜沉积工艺和表面处理技术中最合适的等离子体源。     

Atomic-Oxygen Beam Source with Compact ECR Plasma

An atomic-Oxygen beam source with compact ECR plasma was succesfully investigated.the microwave was produced and transmitted in a coaxial mode,and coupled with the loop ,The plasma was produced as a higher asymmetry magnetic mirror field,and neutralized with the molybdenum target at a lower asymmetry magnetic mirror field.The magnetic field was constituted with permanent magnets.this source has a higher flux density of stom beam, a lower operating pressure ,a smaller power consumption and low-cost.When it was installed at the equipment to study the interaction of the beam with the surface,the operation was carried out very easily and with a good stability.     

快速脉冲充气阀

本文介绍快速脉冲充气阀的结构、理论、实验回路与测量方法。阀门开启时间为20微秒,注入气量可调节。实验结果与理论计算相符。     

阴极弧斑放电的机理分析

介绍了阴极弧斑放电的基本特征。参考前人的研究模型和最新的实验结果,系统地分析了阴极弧斑放电的机理和过程：电子的爆裂发射模型;热场致发射理论;阴极电位降区满足的Ｍａｃｋｅｏｗｎ 公式;阴极弧斑在磁场中的运动机理。最后讨论了气压对弧斑运动的影响,解释了阳极弧斑放电特征。