基于VxWorks的OpenGL图形界面开发

提出一种基于VxWorks的OpenGL图形界面开发方法。研究VxWorks下的OpenGL图形解决方案及汉字生成的基本原理,提取字符的点阵信息生成点阵字体,使用FreeType产生矢量字体。将字体以OpenGL的方式绘制在图形中,实现基于VxWorks的中文图形界面。应用结果表明,该方法具有可行性和实用性。     

钝化工艺对无氰镉-钛合金镀层性能的影响

为了获得无氰镀镉-钛合金的最佳后处理工艺,利用金相显微镜、电化学工作站和盐雾试验测试了三种钝化膜的外观及耐蚀性,并进行了比较。实验结果显示,三种钝化工艺获取的钝化膜经96 h中性盐雾试验后,均未出现白锈;电化学测试结果显示低铬钝化工艺获取的钝化膜自腐蚀电流密度最大,重铬酸钠钝化工艺获取的钝化膜自腐蚀电流密度最小。从环保和耐蚀性方面考虑,建议选用重铬酸钠+硝酸钝化工艺作为无氰镉-钛合金镀层的后处理工艺。     

弱浸蚀溶液对无氰电镀镉-钛合金镀层性能的影响

为了提高无氰电镀镉-钛合金镀层与基体的结合力,采用不同的弱浸蚀工艺对基体进行表面处理,利用场发射扫描电子显微镜及电化学工作站,观察和测试了两种不同弱浸蚀溶液对镉-钛合金镀层微观形貌、结合力及耐蚀性能的影响。结果表明,基体经过弱浸蚀后镀层完整、致密、结合力好,耐蚀性能增强。当H_2SO_4质量分数为5%,HCl质量浓度为40 mL/L时,对基体浸蚀效果较好,析氢不严重。     

针对非均匀问题的多目标进化算法

文章针对解集分布非均匀的问题,提出了一种新的多目标进化算法,称之为GNEA(带小生境的网格进化算法)。在算法中,针对分均匀问题的特点,采用了小生境技术来保持解集的局部非均匀分布,以及网格技术来保证整个解集的分布度。为了让GNEA运行效率更高,提出了用庄家法构造非支配集的方法。最后通过与其他算法进行比较,验证了算法具有较好的运行效率,且在解决非均匀问题上是一种有效的多目标进化算法。     

一种基于聚集距离的多目标进化算法

在多目标进化算法的研究中,解群体的多样性和运行效率是最重要的两个指标。在进化算法中一般采用构造非支配集的方法来保持算法的运行效率和解集的分布性;采用聚类技术来计算和维持解群体的分布性和多样性。文章提出了用庄家法构造非支配集和基于个体距离的聚类方法的多目标进化算法。经试验证明,该算法能够趋近到Pareto最优解,并且能保证较好的分布度。     

30CrMnSi钢中温磷化工艺

以改善30CrMnSi钢中温磷化膜性能为目的,开发了基于氟化镍为促进剂的中温磷化配方。利用开路电位-时间（E-t）曲线研究了氟化镍的促进作用,利用单因素实验考察了柠檬酸和磷化时间对磷化膜性能的影响,通过正交试验优化了磷酸二氢锌、硝酸锌、磷酸、氟化镍的含量。结果表明：当氟化镍含量达到0.8 g/L时,促进了磷化膜的生长过程,磷化反应效果明显;单因素实验和正交试验优化的磷化配方为磷酸二氢锌30 g/L、硝酸锌80 g/L、磷酸8 g/L、氟化镍2 g/L、柠檬酸添加量为1.2 g/L,在60℃下磷化6～10 min。     

铝-锂合金材料表面状态对阳极氧化膜性能的影响

为研究铝-锂合金材料的亚光面、亚面对铬酸阳极氧化膜性能的影响,通过扫描电镜观察了基材的亚光面、亚面及阳极氧化膜的形貌,测试了亚光面、亚面的膜厚及与漆膜的结合力,利用电化学试验测试亚光面、亚面膜层的耐蚀性。结果表明:铝-锂合金材料亚光面和它的氧化膜均比亚面平整光滑,但两面的氧化膜厚度、与漆膜的结合力及耐蚀性接近。     

5,5-二甲基乙内酰脲配位体系酸性镀镉工艺优化

针对无氰镀镉体系镀液稳定性差、镀层性能不佳等问题，选用5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)为主配位剂、CdCl₂为主盐研究了新型镀镉工艺。通过赫尔槽试验、阴极极化等技术研究了镉盐和DMH含量、辅助络合剂类型及浓度、pH值以及电流密度等因素的影响，优化了酸性DMH镀镉工艺方案。结果表明：酸性DMH镀镉体系中可以选择柠檬酸铵作为辅助络合剂。适当增加镉盐与DMH含量，可拓宽光亮电流密度范围，提高镉镀层致密性；增加柠檬酸铵浓度有利于提高镀速，但过多的镉盐和DMH会降低镀液稳定性。提高镀液pH值，镉沉积极化电位不断负移，有助于获得细致结晶，但pH>4后镀液易出现沉淀；此外，该体系许可的电流密度不宜超过1.5 A/dm²。综合确定较佳的酸性DMH镀镉工艺方案为：CdCl₂30 g/L,DMH 60 g/L，柠檬酸铵40 g/L,KCl 30 g/L,pH=3，电流密度1.0～1.5 A/dm²。在此体系下所得镉镀层表面结晶细致、均匀致密，晶粒尺寸为650 nm左右，镀层中Cd元素含量为95.6 wt.%。