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1.
在通讯设备爆炸式增长的时代,移动边缘计算作为5G通讯技术的核心技术之一,对其进行合理的资源分配显得尤为重要。移动边缘计算的思想是把云计算中心下沉到基站部署(边缘云),使云计算中心更加靠近用户,以快速解决计算资源分配问题。但是,相对于大型的云计算中心,边缘云的计算资源有限,传统的虚拟机分配方式不足以灵活应对边缘云的计算资源分配问题。为解决此问题,提出一种根据用户综合需求变化的动态计算资源和频谱分配算法(DRFAA),采用"分治"策略,并将资源模拟成"流体"资源进行分配,以寻求较大的吞吐量和较低的传输时延。实验仿真结果显示,动态计算资源和频谱分配算法可以有效地降低用户与边缘云之间的传输时延,也可以提高边缘云的吞吐量。  相似文献   
2.
亚波长光栅用于实现宽光谱消色散1/4波片的研究   总被引:15,自引:2,他引:13  
基于严格耦合波理论 ,分析了共振区域矩形位相光栅的衍射特性 :位相延迟与光栅周期、占空比、槽深的关系 ,并设计出在 40 0~ 80 0nm范围内的消色散 1/4波片光栅 ,可以实现较为平坦的衍射效率和位相延迟曲线 ,其中位相延迟可保持在 90°左右 ,最大偏差小于 9% ,达到甚至优于普通二元复合消色散波片。通过对加工及安装误差的讨论 ,得到了影响消色散波片光栅性能的主要加工误差是槽深误差和占空比误差。  相似文献   
3.
通信性能评估的仿真实验研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了流量控制和差错控制对通信性能的综合影响,着重分析了停止-等待协议和连续ARQ协议的优缺点,讨论了信道利用率和帧长的关系。介绍了几种多点接人技术的基本原理,如CSMA和CSMA/CD,并给出了各自相应的性能仿真曲线。所设计的通信性能评估实验,仿真界面形象丰富,与实验知识点紧密结合,可以大大提高实验教学的效率和质量。  相似文献   
4.
小流域氮流失特征及其影响因素   总被引:9,自引:1,他引:8  
由非点源流失的氮是造成水体污染的主要因子之一,而土地利用方式往往对氮的流失产生重要影响。本课题在福建省九龙江流域遴选了4个不同土地利用方式的小流域,通过在自然降雨条件下现场采样与室内分析相结合,研究不同土地利用结构的小流域氮的流失特征和影响因素。研究结果表明:总氮、可溶态氮和泥沙结合态氮的浓度通常比径流先达到峰值,然后开始降低;氮的流失以可溶态氮为主(占73%~98.3%),因此其流失量主要受径流量的影响与雨强关系不大;土地利用方式对氮的流失有明显影响,一般植被覆盖度提高可以降低流失,而农业活动会加剧流失;此外,在高植被覆盖度的天然林地,氮的流失呈现出以泥沙结合态为主。通过本研究可以看出土地利用结构的调整和合理布置是九龙江流域非点源污染控制的重点。  相似文献   
5.
改性燕麦麸的保健营养功效初探   总被引:3,自引:0,他引:3  
介绍了以燕麦麸为原料,经现代食品加工技术精制而成的新型保健食品-高纤麦维素。总膳食纤维含量高达30%,可溶性膳食纤维9.56%,其中主要成分为β-葡聚糖。在高脂饲料中添加本品10%,饲喂高脂模型大鼠4周,结果:大鼠血脂TC、TG、LDL-C值显著低于对照组,HDL-C值略有提高。利用核素^67Ga直结肠通过显像观察,可显著改善肠蠕动功能,迅速通便。  相似文献   
6.
缸盖是柴油机上的重要零件之一。铸造毛坯不可避免地存在劈缝、内腔粘砂、粗糙、局部不通等内腔质量问题 ,从而影响缸盖串水冷却效果。本文介绍了一些工艺措施 ,较好地解决了这个问题。  相似文献   
7.
NaY晶化母液制备硅铝胶的技术探讨   总被引:3,自引:0,他引:3  
邹凌峰 《工业催化》2002,10(6):56-60
在导向剂法合成Y型分子筛的工艺下,晶化母液中SiO2的含量为50~55g/l,Na2O含量为20~25g/l,相当于模数为1.65~2.58的稀水玻璃,将晶化母液分离处理后,在晶化母液中加入一定量的硫酸铝溶液使硅沉淀,经过滤和水洗后即可制备出合格的硅铝胶,以便进行重新利用。  相似文献   
8.
水解植物蛋白(HVP)的酶法制备及应用   总被引:10,自引:0,他引:10  
利用胰蛋白酶水解豆粕粉来制备植物水解蛋白(HVP),确定了胰蛋白酶的最佳水解条件为:T=55℃,PH=8.0,E/S=2600u/g,固液比1:8,水解6h。得到了收率高,水溶性好的HVP。还举例说明了酶解HVP液在调味品方面的应用。  相似文献   
9.
并行哈夫曼编码器的硬件设计与实现   总被引:5,自引:4,他引:1  
文章设计了一种并行编码的哈夫曼硬件编码器,它采用了流水线和并行编码方法,使得在一个时钟周期内可以编码一个字节的数据,在编码时显著降低了工作频率。文章给出了关键部分的实现方案并分析了实验结果。  相似文献   
10.
Si1-xGex/Si应变材料的生长及热稳定性研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
利用分子束外延(MBE)技术生长了Ge组份为0.1-0.46的Si1-xGex外延层。X射线衍射线测试表明,SiGe/Si异质结材料具有良好的结晶质量和陡峭界面,其它参数与可准确控制。通过X射线双晶衍射摆曲线方法,研究了经700℃、800℃和900℃退火后应变SiGe/Si异质结材料的热稳定性。结果表明,随着退火温度的提高,应变层垂直应变逐渐减小,并发生了应变弛豫,导致晶体质量退化;且Ge组分越小,Si1-xGex应变结构的热稳定性越好;室温下长时间存放的应变材料性能稳定。  相似文献   
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