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1.
瞿建刚 《电世界》2010,(3):22-25
我公司是生产半导体的厂家,对生产环境的洁净度要求相当高,工作人员必须先进入风淋室风淋后才能进入洁净室无尘车间。风淋室的两道门电子互锁,可以兼起气闸室的作用,防止未被净化的空气进入洁净室。经高效过滤器过滤后的洁净气流由可旋转喷嘴从各个方向喷射至人身上,可有效迅速地清除尘埃粒子。  相似文献   
2.
利用扫描电子显微镜对氧化石墨烯(G O)微观结构进行表征,从黏度、表面张力等角度分析G O分散体系的流变性能,研究GO在多种胺类有机溶剂及水基中的分散行为及其湿法纺丝性能.结果表明,在相同用量下,小尺寸GO分散体系的黏度小于大尺寸GO分散体系;在相同体系浓度下施加不同剪切应力,分散体系出现剪切变稀现象,即剪切速率越高,...  相似文献   
3.
针对钒酸铋(BiVO4)光催化效率低、难回收的缺点,利用硅烷偶联剂KH-560和氧化石墨烯(GO)依次对粘胶非织造布改性,再利用搅拌水热法在其表面生长BiVO4制备还原氧化石墨烯(RGO)/粘胶基BiVO4光催化材料。采用扫描电子显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱和紫外-可见吸收光谱对材料进行了表征,并研究了RGO/粘胶基BiVO4材料的光催化活性、重复使用性能和光催化机制。结果表明:BiVO4成功负载在RGO/粘胶非织造布表面,得到了RGO/粘胶基BiVO4光催化材料;在1 kW氙灯照射下,90 min内对活性黑5脱色率达到95%以上,重复5次后仍达到92%以上;自由基捕捉实验表明,光生空穴、超氧自由基和羟基自由基参与了光化学反应,其中羟基自由基的作用最大。  相似文献   
4.
瞿建刚 《电世界》2010,(5):24-25
洗手器是清除芯片加工工作人员双手灰尘和细菌的设备之一,是保证工作人员生产出合格芯片的必要前提。我厂原来的洗手器采用继电器一接触器控制,分立元件较多,故障频繁,修改控制线路需要重新接线,费时、费力、费钱。针对上述缺点,我们采用欧姆龙公司的超小型可编程序控制器ZEN控制,减少了电气元件之间的连线,方便、可靠而且便宜。  相似文献   
5.
为制备便携、可重复使用和大规模生产的界面蒸发器,基于还原氧化石墨烯(RGO)和不同纺织品制备了RGO/粘胶多层复合材料.其中,RGO/粘胶织物作为太阳能吸收体,棉纱和棉织物作为供水通道,聚丙烯织物作为隔热材料.对RGO/粘胶织物的结构、亲水性能和光学性能进行分析,研究了RGO/粘胶多层复合材料的蒸发性能、循环稳定性及应...  相似文献   
6.
为提高光催化材料钒酸铋的使用性能,采用原位生长法在阳离子可染涤纶上负载钒酸铋,探讨了溶液pH值、反应温度、反应时间对钒酸铋晶体形貌的影响,借助扫描电子显微镜、X 射线衍射以及紫外可见吸收光谱等手段表征了纤维基钒酸铋的表面形貌、晶型、颗粒大小以及光学特性。选取活性黑KN-B 为降解对象,研究了纤维基钒酸铋在可见光下的催化降解活性。结果表明:原位生长法制备纤维基钒酸铋的最佳条件为溶液pH 值7、反应温度90 ℃、反应时间8 h;在可见光照射条件下,80 min内纤维基钒酸铋对质量浓度为20 mg/L 的活性黑KN-B 染料溶液的降解率可达到77.2%,重复利用3 次后的降解率保持在57.3%,织物强力保留率为74.8%。  相似文献   
7.
选用10种常用活性染料对棉织物进行染色,研究了其在可见光、紫外光条件下的光汗褪色情况,并探讨了抗紫外整理剂对活性染料耐光汗复合色牢度的提升作用。研究表明,可见光与紫外光均能引起染料在光汗复合条件下的降解,且紫外光较可见光更易引起染料在光汗复合条件下的降解;抗紫外整理剂整理过的染色织物耐光汗复合色牢度有不同程度的提升,且抗紫外整理剂分子结构线性愈长、对较低波段紫外光吸收作用愈强,其耐光汗复合色牢度提升作用愈明显。  相似文献   
8.
通过对红、黄、蓝三组染料的筛选,以及对分散染料焙烘固色温度、活性染料浸碱浓度、活性染料汽蒸固色时间等因素的探讨,依据织物得色量与染色牢度,在染料总质量浓度为30 g/L时,得出涤棉织物分散/活性染料短流程轧染最佳工艺为:分散染料焙烘固色温度220℃,焙烘时间1.5 min,活性染料浸碱用Na2CO3质量浓度25 g/L,汽蒸固色温度120℃,汽蒸时间3 min。结果表明,双拼色染色织物的K/S值均在10以上,耐摩擦和皂洗色牢度都在4级以上;三拼色织物的K/S值略低,湿摩擦牢度为3~4级,其余牢度为4~5级。  相似文献   
9.
为满足清洁生产的要求,提高T酸合成的反应速率和转化率,以镍铝合金粉末作为催化剂前驱体,经过氢氧化钠活化制备骨架镍催化剂,借助扫描电子显微镜、X射线衍射仪、比表面积及孔隙分析仪和Zeta电位分析仪等手段对其结构和性能进行表征,并研究其在硝基T酸加氢还原制备T酸中的应用。结果表明:制备的骨架镍催化剂含有大量的孔道,以中孔为主,比表面积为46.88 m2/g,平均晶粒尺寸为15.8 nm。制备的骨架镍在硝基T酸加氢还原中的最佳应用工艺为:催化剂质量分数2.500%,反应压力2.0 MPa,反应温度120 ℃,搅拌速度800 r/min。在此最佳工艺条件下,硝基T酸的转化率达99.07%,并且套用10次无明显失活现象。  相似文献   
10.
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