首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   4篇
  免费   1篇
  国内免费   1篇
电工技术   1篇
综合类   1篇
化学工业   1篇
能源动力   3篇
  2013年   1篇
  2009年   1篇
  2008年   2篇
  2007年   2篇
排序方式: 共有6条查询结果,搜索用时 156 毫秒
1
1.
气液两相滑动弧降解甲基紫废水影响因素的实验研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了利用滑动弧放电对印染废水甲基紫进行降解的实验,主要对比了不同气流量、不同载气以及放置不同时间下降解液的COD值,一般来讲,在气流量为0.3 m^3/h时,经过三次降解后溶液的COD值已能达到排放标准,四次降解的溶液COD值几乎为零,最后探讨了催化剂(Fe^2+)的加入对降解的影响,发现催化剂Fe^2+对放置后样品的自行分解有抑制作用,在实际应用过程中不提倡使用。  相似文献   
2.
滑动弧等离子体在废水处理应用中的研究进展   总被引:1,自引:2,他引:1  
滑动弧放电是一种可在常压下产生非平衡等离子体的新型低温等离子体技术。通常在2或3个及更多的电极间形成电弧,在电弧区形成热或冷的等离子体。为比较完整地了解滑动弧放电在水处理方面的进展,综述了滑动弧放电在水处理方面的文献。阐述了滑动弧放电等离子产生的基本原理及处理废水的机理;介绍了滑动弧放电等离子体处理废水的两种装置及其优缺点;分析了水处理过程中产生的活性离子种类、检测方法及研究现状;介绍了目前滑动弧放电等离子处理废水的现状;最后展望了滑动弧等离子处理废水的前景。  相似文献   
3.
采用冷态试验和数值模拟相结合对某电厂360MW燃煤锅炉SCR脱硝系统设计方案进行了系统分析。结果表明,数值模拟结果和冷态试验结果较为吻合,催化剂入口速度分布Cv值以及浓度场Cv值都能满足设计要求。数值模拟可用于指导SCR脱硝系统的优化设计。  相似文献   
4.
滑动弧等离子体处理酸性橙Ⅱ废水   总被引:4,自引:1,他引:3       下载免费PDF全文
采用气液两相滑动弧等离子体降解酸性橙Ⅱ,研究了酸性橙Ⅱ的降解动力学及降解机理。结果表明:当电压为10 kV,载气为O2,气体流速为0.4 m3·h-1,废水流量为20 ml·min-1,电极间最窄处距离为3.5 mm,溶液浓度在300 mg·L-1以下时,滑动弧等离子体对酸性橙Ⅱ的降解符合一级动力学规律。检测了纯水放电时H2O2、O3生成量以及OH·的相对量。运用紫外光谱(UV-Vis)、离子色谱(IC)、色谱-质谱联用(GC-MS)等方法,测定出酸性橙Ⅱ的主要降解产物有乙酸、乙二酸、丙二酸、苯酚、3-羟基苯乙酮、萘、苯磺酸、邻苯二甲酸(酐)、β-萘酚等,并依此推测酸性橙Ⅱ的降解机理,即羟基自由基攻击酸性橙Ⅱ分子上与萘环相连的C—N键,导致C—N键的断裂,进而染料脱色矿化。  相似文献   
5.
二氧化钛光解与滑动弧等离子联合降解偶氮染料研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
采用气液两相滑动弧等离子和二氧化钛光降解技术联合处理酸性橙Ⅱ,研究了二氧化钛浓度、气体类型和溶液初始pH值对酸性橙Ⅱ降解率的影响.结果表明:在电压为10kV,频率为50Hz,电极间最窄距离处为3.5mm条件下,对于浓度是300mg/L的酸性橙Ⅱ溶液,二氧化钛浓度为1.0g/L,初始pH值为酸性或碱性,载体为氧气,协同效应明显,更有利于酸性橙Ⅱ降解率的提高.同时检测了纯水放电条件下,二氧化钛的加入对活性粒子H2O2、O3和OH·生成量的影响,酸性橙Ⅱ降解率的提高是更多活性粒子作用的结果.用红外光谱和GC-MS对降解产物测试分析,推测酸性橙Ⅱ的可能降解途径,即羟基自由基攻击酸性橙Ⅱ分子上的C-N键,导致C-N键的断裂,染料脱色矿化降解.  相似文献   
6.
不同气氛下气液两相滑动弧放电降解甲基紫   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了在空气、O2和N2气氛下滑动弧等离子体在纯水中放电的发射光谱,并以甲基紫为目标污染物,分析了在不同气氛下甲基紫的降解率以及降解产物.结果表明,在三种气氛下,OH自由基均是在放电过程中产生的最主要自由基;在空气和O2气氛下,甲基紫降解20 min后的降解率达到99%以上,高于在N2气氛下甲基紫的降解率.根据傅里叶红外光谱(FTIP)及气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)的中间产物分析结果,在三种气氛下甲基紫分子中心碳原子的共轭结构在自由基作用下断裂,染料降解脱色,染料中间体在自由基作用下进一步降解、开环,直到生成CO2和H2O.  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号