超细分级机分级性能影响因素的研究

为探究超细分级机分级性能的主要影响因素,从物料特性、结构参数和操作参数三个方面进行了详细的分析,并对叶片数量,分级室直径,转子转速进行了数值模拟,揭示了不同工况下分级机内部的流场特性,得到了参数的最佳取值。本文的研究对超细分级机的结构设计和参数的调整具有指导作用。     

基于并行口的设备状态监测与故障诊断系统的设计

基于计算机通用并行口的设备状态监测与故障诊断系统具有采集与数据传输速度快,控制方便等优点.以电机状态监测与故障诊断系统为例,分析了基于通用计算机并行口的状态监测与故障诊断系统电路设计方法.     

用SiH2Cl2沉积MEMS中的多晶硅薄膜研究

用SiH2Cl2在3种温度下进行了多晶硅薄膜的沉积,根据膜厚计算出了沉积速率,用SEM、XRD和薄膜应力测试仪对薄膜进行测试分析.证明用SiH2Cl2在950℃时可以快速沉积用于MEMS的多晶硅.     

同步发电机参数辨识的模拟进化方法

目前解决同步电机参数辨识最有效的途径是在线辨识。但人们经常会遇到不同试验或同一试验时辨识所得参数相差较大, 即所谓参数辨识不稳定。本文认为其原因有两方面： 一是参数是否可辨识; 二是参数辨识方法是否合适。本文在前文献［５］ 分析了同步发电机模型参数可辨识性的基础上, 以模拟进化方法为工具, 提出了全局性好、鲁棒性强的辨识方法。针对浙江衢化热电厂进行的实际应用表明, 进化策略法具有较高的精度和较少的计算量, 适合于同步电机参数辨识     

异步电机的失电残余电压研究

对异步电机失电残余电压的产生进行分析；建立了异步电机失电残余电压仿真计算模型，并进行仿真计算；定量分析异步电机失电残余电压的幅值、频率及其随时间变化的关系，并进行实验研究。异步电机失压后，残余电压的频率将突变，且不断减小，其大小由转子的转速决定；失电残压的幅值与失电时刻电源的相位及电机参数等有关，并随时间衰减。仿真计算与实验测试结果一致。     

水机电系统相互作用研究

给出水力系统大波动与小波动模型,推导出适合于电力系统分析的水力系统大波动模型差分化方程。在此基础上,仿真并分析了负荷对水机的影响以及不同水力系统模型对电力系统稳定的影响,认为应根据研究的不同侧重点采用不同的水击模型,为以后电力系统问题的分析提供参考。     

50nm X射线光刻掩模制备关键技术

X射线光刻(XRL)采用约1nm波长的X射线，是一种接近式光刻。就光刻工艺性能而言，XRL能同时实现高分辨率、大焦深、大像场等，是其他光刻手段难以比拟的。由于不需要辅助工艺，因而工艺成本很低。掩模制造技术是XRL开发中最为困难的部分。本文介绍了适用于50nm XRL的掩模制备的关键技术。     

计及转子变换器控制策略的双馈风力发电机转子绕组故障诊断

双馈风力发电机转子绕组的状态监测与故障诊断技术能够及时发现并诊断转子绕组故障,有效地降低风电场的运行和维护费用。通过仿真分析发现转子变换器不同控制策略对故障特征信号提取的影响,建立实验平台,并通过分析实验数据验证其正确性。首先,利用PSCAD软件建立双馈风力发电机转子绕组故障模型,其中转子变换器分别采用SVPWM矢量控制和滞环电流矢量控制,通过仿真分析,得出特征信号转子电压和转子电流进行诊断的适用范围;然后在动模实验室建立转子绕组故障诊断实验平台,考虑发电机变速及交变载荷的实际工况。最后,通过对特征信号进行频谱分析验证转子变换器控制策略对其的影响。     

同步辐射光刻技术研究进展

光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展。     

3种感应电动机综合负荷模型的比较

感应电动机综合负荷模型是电力系统动态计算和稳定分析等的基础，已 提出了多种模型。文中从计算精度、参数获取以及应用场合等角度对3种感应电动机综合负 荷模型（即三阶机电暂态模型、一阶机械暂态模型以及一阶电压暂态模型）进行比较，为应 用和选择提供了参考依据。