大吨位预应力时混凝土局部应力的测试与分析

大桥采用挂篮悬臂浇筑法施工,每个悬臂施工段张拉锚固两到四束纵向预应力束.为了掌握大桥结构局部受力情况,确保施工和结构安全,在橹尾撬大桥49#墩的2#块纵向预应力张拉施工时,测试了錨垫板附近箱梁混凝土的应变分布,进行了空间有限元分析,并对理论计算与实测进行了分析比较.     

EA-HFCVD 沉积纳米金刚石膜的光致发光分析

采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积出晶粒尺寸为30nm的均匀金刚石膜。生长过程中,预先加6A偏流生长1h,然后在0.8kPa条件下,无偏流生长3h。光致发光谱中存在4个发光中心分别位于1.682eV,1,564eV,1,518eV和1.512eV的发光峰。1.682eV处发光峰源于衬底硅原子掺杂于膜中引起的缺陷;其他发光峰源于金刚石晶格振动声子。光致发光强度越大对应的缺陷密度越大,从而降低了场发射域值电场强度,其关键可能源于金刚石膜电导型晶界。     

大米加工精度的检测方法探讨

大米加工精度是评价大米品质的重要指标,市场上对大米认知存在着一定的消费误区,认为加工精度越高的大米就越好,其实精度越高大米的营养成分失去越多.在大米生产中,对大米加工精度检测多采用人工判断方法,根据多年的工作实际经验,探讨影响大米精度的主要因素,介绍大米加工精度检测的几种原理和方法,参考行业里常用检测技术,供同行间交流...     

等离子平板显示中冷阴极纳米金刚石膜的制备

讨论大面积 4 cm×4 cm 纳米金刚石膜制备工艺.采用电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)在硅片上沉积纳米金刚石膜.生长过程中,预先加 6 安培偏流生长 1 小时,然后在 0.8 千帕条件下,无偏流生长 3 小时.原子力镜表征晶粒尺寸为 30 纳米.样品上任意三点采用原子力镜表征,表现出良好均匀性.采用偏振光椭圆率测量仪和分光计分别表征样品的折射率和透射率.红外波段透过率超过 50%.金刚石膜表面分别进行氢化和氧化处理.通过表征,氢化处理后膜比氧化处理后膜对应的γ值大,约为 0.45.     

大跨度斜拉桥侧风非线性分析

考虑静风荷载非线性和结构几何非线性因素的影响,计及风速沿桥梁结构高度变化,采用增量双重迭代搜索法进行了斜拉桥静风非线性稳定分析,并编制了相应的计算程序。以湛江海湾大桥为例,探讨了静风荷载非线性、风速空间分布非均匀性等因素对斜拉桥静风失稳临界速度的影响。分析结果表明,主梁扭转变形、索和塔柱上的静风载荷对斜拉桥的抗静风稳定性影响较大。     

纳米光学金刚石薄膜的分析与改进

由于极其优良的热学和光学性能,纳米金刚石薄膜极有可能应用于背投电视的激光光学窗口。文章通过在热丝辅助化学气相沉积法中采用偏压增强成核(BEN-HFCVD) ,成功地在(100)硅衬底上制得了适于作为光学窗口的高质量的光学级纳米金刚石薄膜,采用的偏压为-30 V。通过表征制备的纳米金刚石薄膜,发现它具有光滑的表面,表面均方根粗糙度(RMS)约为10 nm,并且对自支撑纳米金刚石薄膜进行透射光谱分析得到其透射率达到了50 %。     

应用于FED的金刚石薄膜的光学和结构分析

本文比较研究了不同晶粒大小和结构的金刚石薄膜的场发射性质,这些金刚石薄膜通过热丝辅助化学气相沉积法(HFCVD)获得.研究结果表明纳米尺寸效应对金刚石薄膜的场发射性能有非常重要的影响,通过比较不同晶粒尺寸的金刚石薄膜发现纳米金刚石薄膜相对于大晶粒金刚石薄膜(比如微米级的金刚石薄膜)有更好的场发射性能.从拉曼光谱得到,含有一定量非金刚石相的金刚石薄膜有更好的场发射能力和更低的开启电场(E0).另外,具有(111)定向的金刚石薄膜比起其他结构的金刚石薄膜,它的电子发射能力更强.     

ANSYS优化设计在确定斜拉桥恒载索力中的应用

以主梁和主塔的最大位移最小(塔直梁平)为目标,介绍大型有限元分析软件ANSYS的优化设计功能及其在确定斜拉桥成桥恒载索力的实现过程,并结合实桥应用效果指出采用ANSYS进行斜拉桥成桥恒载索力确定是比较方便可行的。     

大米加工厂的工艺布局和工艺管理探讨

介绍了目前国内大米加工行业常见的几种车间工艺布置方式,从管理体系、工艺纪律、质量管理、工艺检查、人才队伍等方面分析了影响工艺效果因素,以期提质增效、稳定产品质量,提高企业综合竞争力。