METRICA系统在移动网管分析优化工作中的应用

广州移动现有专业网络管理系统主要包括爱立信OSS系统和本地OMC系统，METRICA性能管理系统是美国ADC电信公司提供的性能管理软件。详细介绍了广州移动网络管理系统的构成和建设，以及METRICA系统的模块组成。通过实例详细说明了METRICA系统在性能监控、性能优化、资源配置、为经营分析提供数据依据等方面的应用。     

影响喷丸除锈的工艺因素

喷丸除锈是涂装前处理的主要手段之一，本文论述了提高喷丸除锈效率的各工艺因素，分析了影响喷丸除锈工艺的诸因素，并介绍一些适宜的工艺条件。     

案例法结合PBL教学模式在数据库课程中的应用

分析目前流行的案例教学法和PBL教学法的特点,提出将案例法结合PBL教学模式应用于数据库课程的教学中,阐述通过以案例为基础、教师讲授结合学生讨论的理论教学,配合以问题为基础、学生为中心、教师为导向的实践教学,能够提高教师的教学质量及学生的学习兴趣和学习效果。     

双水解法制备SO4^2-/SnO2·SiO2固体超强酸及其结构表征

用双水解法合成了SO24-/SnO2-SiO2固体超强酸催化剂。采用FTIR、TG-DTA和XRD技术研究了SO24-/SnO2-SiO2的结构,其测试结果表明:SO42-/SnO2-SiO2的结构与其催化活性存在很好的一致性。     

确定土壤背景值的Hazen概率法——以铜陵矿区Pb为例

本文选取已知土壤背景含量的铜陵矿区,基于Hazen概率曲线,探讨了土壤污染重金属元素Pb背景含量与污染叠加含量的区分方法.得到Pb元素的背景含量为28.5μg/g,与该区深层土壤样中Pb元素含量的平均值(34μg/g)比较接近.还得到了Pb元素污染叠加含量与背景含量的界线点51μg/g.基于Hazen概率曲线区分铜陵矿区土壤Pb元素背景含量与污染叠加含量的方法是有效的,有必要将该方法推广到土壤中其它重金属污染元素、其它地区作进一步研究.     

金城散热管厂开发生产汽车用铝管

金城散热管厂开发生产汽车用铝管江苏无锡市金城散热管厂，是一家专门生产汽车水箱铝管、汽车蒸发器平行流多孔扁管、汔车零部件用各种规格铝管与型材的工厂。可生产的合金有Ｌ２、ＬＦ２１、ＬＤ３０、ＬＤ３１等，为国内桑塔纳、捷达、依维柯等车配套供应铝管材与型材。...     

九钢3号高炉大修后快速开炉生产实践

九钢3号高炉因炉缸烧穿而被迫停炉大修,通过制定详细、可行的开炉方案实现了安全、顺利开炉生产,点火开炉至正常生产只用了4天时间,为萍钢高炉炼铁历史上最成功的一次开炉。     

I2与HF、H2O和NH3之间相互作用的从头算研究

采用从头算理论,在MP2(full)/ 6-311 G(3 d,3 p)水平下,通过对HF、H2O和NH3与I2的分子间相互作用进行了研究.研究发现在HF、H2O和NH3与I2之间存在卤键和氢键两类稳定二聚物.相互作用能分析和自然布居分析(NPA)都表明卤键二聚物比相应的氢键二聚物要稳定,而且卤键二聚物的相互作用能按HFH2O>NH3减小.     

任务驱动教学法在VB教学中的应用

提出了在VB教学中采用任务驱动教学法.并对任务驱动教学法包含的五个环节作了较深的探索.     

化学机械抛光制程中铜抛光液平坦化能力的评估

The evaluation methods of planarization capability of copper slurry are investigated.Planarization capability and material removal rate are the most essential properties of slurry.The goal of chemical mechanical polishing(CMP) is to achieve a flat and smooth surface.Planarization capability is the elimination capability of the step height on the copper pattern wafer surface,and reflects the passivation capability of the slurry to a certain extent.Through analyzing the planarization mechanism of the CMP process and experimental results,the planarization capability of the slurry can be evaluated by the following five aspects:pressure sensitivity,temperature sensitivity,static etch rate,planarization efficiency and saturation properties.