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在AZ91镁合金表面采用化学方法制备转化膜层。对植酸化学转化溶液中植酸质量分数,pH,反应温度,反应时间等进行单因素实验和正交试验,确定最佳工艺参数:3 mL/L植酸,3 g/L NaF,40 g/L H3BO3,15mL/L H2O2,pH为4.5。在镁合金表面获得淡灰致密,具有微细裂纹的膜层。在植酸化学转化溶液中添加5g/L Ce(NO3)3·6H2O获得更为优异的耐蚀膜层。通过X-射线衍射测试表明,添加Ce(NO3)3·6H2O的镁合金化学转化膜的主要成分为MgH10O24P6和CeO2。耐蚀性测试表明,两种溶液获得的镁合金化学转化膜的耐蚀性能均有提高,其中添加硝酸铈的膜层微观形貌及性能较佳。 相似文献
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AZ91镁合金钼酸盐转化膜的制备及耐蚀性研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用化学转化法在AZ91镁合金基体表面制备一种环境友好型的钼酸盐转化膜.通过对溶液pH、温度以及Na2MoO4质量浓度等因素的控制并进行单因素试验和正交试验,确定化学转化的最佳工艺条件:30~40 g/L Na2 MoO4,pH为3.5,θ为70℃,t为50 min.采用优化后的工艺能够在镁合金表面获得微黄致密,微细裂纹的膜层,X-射线衍射测试表明,钼酸盐转化膜的主要成分Mg2Mo3O8和MgMoO4.极化曲线测试表明钼酸盐转化膜能有效提高镁合金的耐蚀性能,自腐蚀电位提高,自腐蚀电流密度降低2个数量级. 相似文献
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镁合金植酸转化膜的制备及其性能的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用化学转化方法在AZ91D镁合金表面制备一种环境友好型的植酸转化膜。通过对pH值、温度、反应时间、植酸的质量分数等因素的控制,进行单因素实验和正交实验。确定的最佳工艺条件为:植酸3%,NaF 3g/L,H3BO340g/L,Ce(NO3)3·6H2O 5g/L,pH值4.5。采用优化后的工艺,能够在镁合金基体表面获得宏观上淡灰、致密,微观上具有微细裂纹的膜层。XRD测试表明:该植酸转化膜的主要成分为MgH10O24P6和CeO2。耐蚀性测试表明:植酸转化膜能有效地提高镁合金的耐蚀性。 相似文献
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微弧氧化技术在Al、Mg、Ti及其合金中的应用 总被引:13,自引:0,他引:13
综述了微弧氧化技术发展状况、机理及其影响因素.有色金属Al、Mg、Ti及其合金在工业中的地位越来越重要,而其耐蚀性、耐磨性及硬度等应用性能不理想一直束缚其发展.微弧氧化技术可以直接在有色金属Al、Mg、Ti及其合金表面原位生长陶瓷层,从而改善了其应用性能.介绍了微弧氧化技术在Al、Mg、Ti及其合金中的应用.
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目的提高镁合金微弧氧化膜的耐蚀性。方法在Na_2SiO_3-NaOH-Na_2B_4O_7组成的电解液体系中,分别加入铜离子、钴离子和镍离子对AZ91D镁合金进行微弧氧化,研究离子种类和组成对膜层性能的影响。采用点滴实验测试膜层的耐蚀性,采用电化学工作站测试膜层的电化学性能,采用扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)对微弧氧化膜层的表面形貌和元素组成进行分析。结果电解溶液中加入钴离子、铜离子、镍离子后,镁合金微弧氧化膜的耐腐蚀性能均有提高。其中铜离子的影响最大,加入1.5 g/L的铜离子后,镁合金微弧氧化膜的点滴时间提高了77.3 s,膜层耐腐蚀性能显著提高。电化学测试结果得出,不加金属离子的氧化膜的腐蚀电流密度为1.092×10~(-5) A/cm~2,腐蚀电位为-1.487 V;加入钴、铜、镍离子浓度分别为2、1.5、3 mol/L时,腐蚀电流密度分别为3.912×10~(-6)、6.027×10~(-6)、2.167×10~(-6) A/cm~2,腐蚀电位分别为-1.412、-0.832、-1.047 V;加入金属离子制得的微弧氧化膜的腐蚀电流密度均降低了1个数量级,腐蚀电位不同程度地正移,其中加入铜离子后腐蚀电位提高了0.655 V。加入金属离子后,陶瓷膜表面空隙和孔洞数量不同程度地变浅和减少,增加了膜层的致密性和均匀性。结论电解液中添加一定量的铜、钴、镍离子均能够提高AZ91D镁合金微弧氧化膜层的耐蚀性,其中铜离子的效果最明显。 相似文献