纳米二氧化钛表面包覆改性及光催化性能研究

通过Cr2O2-7的还原反应研究了Fe3+和SiO2包覆对锐钛型纳米二氧化钛光催化性能的影响,以及氢氟酸溶液对SiO2包覆层的刻蚀作用.结果表明:铁包覆可提高纳米二氧化钛的光催化性能;当Fe2O3与TiO2的质量比10%时,Fe3+包覆纳米二氧化钛光催化性能最好;SiO2包覆能很好地屏蔽纳米二氧化钛的光催化功能;采用2.5%的氢氟酸溶液可以除去SiO2包覆层,恢复纳米二氧化钛的光催化功能.     

自整角机轴角信息采集记录仪的设计

介绍了一种由单片轴角／数字转换集成电路AD2S83、单片机以及大容量存储器构成的自整角机轴角信息采集记录仪的总体设计。该采集记录仪能将自整角机的三相模拟信号及参考信号转换为表示轴角位置、角速度等信息的数字量。可以对转换结果进行处理、存储或传输，在含有自整角机的系统的研究开发、状态监测等场合具有实用价值。     

遇油膨胀丁苯橡胶的配方设计与性能研究

以丁苯橡胶(SBR)和自制的高吸油树脂(OAR)为主要原料,以高耐磨炭黑(HAF)为补强剂,以石油树脂为软化剂,使用物理共混方法制备遇油膨胀橡胶(OSR).兼用数学方法对其吸油性能和力学性能进行了研究,结果表明:随着高吸油树脂用量的增加,OSR的吸油性能提高,力学性能降低;随着高耐磨炭黑用量的增加,OSR的吸油性能和断裂伸长率降低,硬度和拉伸强度提高.所建立的数学方程,为预测OSR的性能及优化配方提供了理论参考.     

MCGS的可扩充性及其设备驱动开发

针对高级用户要求对MCGS组态软件进一步开发,以实现与所用硬件相匹配驱动程序的问题,介绍了MCGS良好的可扩充性,并从其设备驱动构件的接口规范出发,利用系统配套提供的高级开发工具包及VB生成友好界面的优势,以在VB环境中编写阿尔泰公司PCI2005数据采集卡的驱动程序为例,说明了设备驱动构件的开发过程,为一般的设备驱动程序提供了设计思路和程序框架。软、硬件开发人员和第三方用户通过简单移植即可开发出自己的设备驱动和专业化的模块。     

（N，N－二甲胺基乙基）丙烯酸酯在炭黑表面接枝聚合研究

利用Ｃｅ（４＋）和炭黑表面的羟甲基组成的氧化还原体系，探讨了（Ｎ，Ｎ－二甲胺基乙基）丙烯酸酯在炭黑表面的接枝聚合机理。研究表明单体和硝酸的浓度以及铈离子的用量对该反应有显著的影响。傅立叶红外光谱分析和透射电子显微镜分析表明，在接枝改性炭黑表面存在着聚（Ｎ，Ｎ－二甲胺基乙基）丙烯酸酯。     

船舶自动电站微机控制系统设计

提出了船用电站实站实时控制系统，该系统可以自动完成船舶电站发电机组的调频，调载，并车和解列等操作。本装置充分利用了ＭＣＳ－９８单片微机丰富的硬件功能和高效的指令系统，整套装置结构简单，合理且易于扩充新的功能，本装置在实验室中进行了多次试验，工作正常，可靠，达到了预期的设计目标。     

PBS/HNBR共混可降解橡胶的制备与性能

将聚丁二酸丁二醇酯（PBS）与氢化丁腈橡胶（HNBR）通过熔融共混的方法制备了可以降解的PBS/HNBR共混橡胶。利用X射线衍射（XRD）和扫描电子显微镜（SEM）,分别对水解前后的PBS/HNBR共混橡胶的晶体结构、表面的微观形貌进行了表征。研究了不同的PBS/HNBR共混比对混炼胶的硫化特性、水解前后力学性能、降解性能的影响。结果表明:PBS与HNBR共混并未影响PBS的晶体结构,PBS能较均匀地分散在HNBR橡胶基体中。在150 ℃的强碱溶液条件下,PBS/HNBR共混橡胶出现了一定程度的降解,且随着PBS用量的增加,降解速率提高。当PBS用量为50 g时,共混橡胶的降解程度达到19.50%,拉伸强度、断裂伸长率和硬度都有下降。     

基于SUSAN角点检测的动态目标识别

为了快速准确地进行车型识别,提出了一种基于SUSAN角点检测的识别方法。通过计算待识别车辆与三种标准样本SUSAN角点的Hausdorff距离,将Hausdorff距离较小的两者认定具有相同的车型,实验结果表明,该方法准确、有效且实时性较好。     

胶体晶体模板法制备有序多孔镁铝水滑石

以粒径约1 μm 的单分散三聚氰胺-甲醛微球制备得到胶体晶体模板,采用低过饱和沉淀法制备的镁铝摩尔比为2∶1的镁铝水滑石,将合成的水滑石悬浊液通过毛细效应的作用填充至胶体晶体模板间,待固化后经过煅烧去除胶体晶体模板,制备有序多孔镁铝水滑石。通过傅里叶红外光谱、X射线衍射分析、热重分析、差示扫描热分析、扫描电子显微镜对有序多孔镁铝水滑石的结构及形貌进行表征。结果表明,当加入体积分数为5%镁铝水滑石悬浊液时,去除模板后可得到孔径大小较为均一且排列有序的多孔镁铝水滑石。     

金属预置层后硒化法制备CIGS薄膜的研究进展

系统综述了国内外采用金属预置层后硒化法制备Cu(In,Ga)Se2(CIGS)薄膜的研究进展,重点从预置层制备过程中靶材的选择、叠层方式以及后硒化过程中硒源种类和硒化方式的选择等几个方面对各种工艺的优点、存在的问题和可能的解决方案进行讨论,并对金属预置层后硒化法的发展前景和趋势进行了展望。