基于FPGA的全相位FFT高精度相位测量

传统的FFT测相方法,若不采取一些繁复的补偿和修正措施,只有在满足信号频率为频率分辨率整数倍的条件下才有意义,而这个制约条件在实际工程应用中往往难以满足.基于全相位FFT(apFFT)的思想,结合实际工程应用要求,设计并在FPGA平台上实现了1种高精度相位检测系统.在MATLAB环境下的功能模拟和性能仿真,以及在FFG...     

数字中频相干解调数字锁相环设计和FPGA实现

数字中频相干解调器是基于软件无线电技术的数字中频接收机的首要部件,而其中的数字锁相环又是数字中频相干解调器的核心。数字锁相环是1个非线性系统,为了避开非线性分析的困难,本文利用数字锁相环与模拟锁相环在跟踪和捕获规律准等效的条件,阐述了一种实用有效的数字锁相环设计方法。该方法基于数字环z域模型与对应的模拟环s域模型的参数关联性,首先按设计要求,设计模拟环的模型参数,然后通过模拟环与数字环模型参数间的函数关系得到数字环的模型参数。仿真实验与FPGA实现表明,利用该方法设计实现的数字锁相环工作正常、稳定,主要技术指标与理论分析相符合。     

试论大数据背景下的计算机信息处理技术

由于计算机技术的快速发展,为生产生活创造了许多的便利条件,计算机用户具有了较大的规模,信息也呈爆炸式增长,需要有大量的数据需要处理。面对数据的增长,大数据技术的产生,可以为提升计算机信息处理能力创造有利条件。大数据技术的应用也会给当前的信息处理技术产生多方面的压力。由于计算机信息处理能力不能满足保证大数据的处理效果,计算机领域需要实现技术革新。另外针对海量数据的处理,还需要保证数据安全问题,借助数据挖掘发挥数据的价值,明确计算机未来的发展方向,有利于应对计算机信息处理技术面临的机遇与挑战。     

梅钢RH精炼技术的应用效果

RH真空精炼技术在高质量钢的生产中发挥着越来越重要的作用。以梅钢炼钢厂150 t RH炉的实际运行情况为依据,从RH的基本工作原理、工艺、设备的组成等几个方面重点对RH真空排气的应用及处理模式进行了介绍。     

团聚粉末制备工艺对冷喷涂Ti2AlC沉积的影响

以热压烧结后球磨粉碎的Ti_2AlC亚微米粉末为原料,通过水热处理使其团聚成微米级粉末,并运用冷喷涂技术在Zr-4合金基体上沉积Ti_2AlC涂层。采用扫描电子显微镜、金相显微镜、XRD衍射仪、激光粒度分析仪等对Ti_2AlC颗粒和涂层微观结构进行表征;采用显微硬度仪和拉伸测试系统对Ti_2AlC涂层的基本力学性能进行测试;采用N2吸附法测涂层孔隙,采用电化学工作站测涂层的贯通孔隙。结果表明:对平均粒径0.3μm的Ti_2AlC粉末进行水热处理时,添加硫酸铵能够促进亚微米颗粒的团聚,团聚粉末的平均粒度可达到6μm。此粉末的冷喷涂特性最好,沉积的Ti_2AlC涂层厚度达到100μm,涂层中有微孔和介孔但没有贯通孔隙,涂层和基体结合强度达到了44MPa。     

应用于WLAN的小型化差分双频微带天线设计

本文设计了一种小型化差分双频微带天线.天线辐射单元由方环形结构和1对叉形结构组成,低频由方环形结构和叉形结构共同决定,高频主要由内部叉形结构决定.天线辐射单元总尺寸为18 mm×18 mm(0.31λg×0.31λg,λg为低频导波波长),比传统半波长微带天线减小了38%.仿真和测量结果表明,天线可以工作在2.45 GHz和5.25 GHz,低频和高频段带宽分别为4.5%(2.39 GHz~2.5 GHz)和4.8%(5.1 GHz~5.35 GHz),峰值增益分别为2 d Bi和4.3 d Bi,适用于WLAN(Wireless Local Area Network)的应用.     

溶胶 - 凝胶法制备 TiO2 及其冷喷涂性能研究

冷喷涂陶瓷涂层的现有研究表明, 大部分商业陶瓷粉末不适合用于冷喷涂, 而实验室制备的纳米团聚粉末 更易于冷喷涂。 溶胶 - 凝胶法是制备纳米 TiO2 最常用的方法之一, 具有工艺简单、 重复性高、 反应易控制等优点, 而且可以通过实验参数的改变从分子水平对反应进行控制, 从而获得结构形态各异的纳米粒子。 本文采用基于钛 酸四正丁酯水解反应的溶胶-凝胶法制备纳米锐钛矿TiO2, 研究粉末的微观结构并考察其冷喷涂性能, 在此基础上, 分析原料粉末性能对其冷喷涂性能的影响。 研究结果表明, 与商业 TiO2 粉末相比, 溶胶 - 凝胶法制备的 TiO2 粉 末具有良好的冷喷涂工艺适应性。 溶胶 - 凝胶法制备的 TiO2 粉末微观结构为不规则形, 经过热处理后由无定形态 转变为锐钛矿相。 冷喷涂 TiO2 涂层晶体结构及涂层内部 TiO2 颗粒的微观形貌均与溶胶 - 凝胶 TiO2 粉末保持一致。 冷喷涂 TiO2 涂层的光催化活性受原始喷涂粉末影响, 当原始喷涂粉末的光催化活性高时, 冷喷涂 TiO2 涂层的光 催化活性也较高。