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1.
本文介绍了等离子表面镀膜、渗金属、渗氮和碳氮共渗设备的功能,工作原理,可从事的研究及应用领域。  相似文献   
2.
金属基陶瓷涂层的制备和应用   总被引:5,自引:0,他引:5  
综述了金属基陶瓷涂层的各种制备方法及其特点,介绍了金属基陶瓷涂层的典型应用及研究动态。  相似文献   
3.
钛合金表面双层辉光离子渗铝的研究   总被引:7,自引:3,他引:4  
利用双层辉光渗金属技术,以铝为源极、TC4(Ti-6Al-4V)为阴极、氩气为工作气体,依靠辉光放电和不等电位空心阴极效应在TC4表面形成合金层。采用X射线衍射和辉光放电光谱分析了合金层的相组成及渗层内Al元素的分布.并对其进行硬度测试。结果表明:渗层由Ti3Al和α-Ti组成;铝的含量可达18%;渗层厚度可达13μm;其硬度比经渗铝处理后的有了较大程度的提高。  相似文献   
4.
薄膜与基体间的附着力测试   总被引:1,自引:0,他引:1  
薄膜是一种特殊形态的材料,在微电子等领域得到了广泛的应用.薄膜与基体间的附着性能在很大程度上决定了薄膜应用的可能性和可靠性,但是,迄今为止对薄膜与基体间界面的了解还不够深入,也没有一种通用的测量技术.阐述了薄膜与基体间的附着机理和增加附着力的途径,介绍了胶粘法、划痕法等各种比较常用的附着力测试方法.  相似文献   
5.
在已优化的Na2SiO4-Na3PO4复合体系溶液中加入Al2O3粉末对AZ91D镁合金进行了微弧氧化处理。用SEM、XRD分析了加入Al2O3粉末对陶瓷膜的形貌特征和相成分的影响。结果表明,加入Al2O3粉末后陶瓷膜孔洞减少,且疏松层变得紧实;膜层相成分增加了Al2O3。在3.5%NaCl溶液中的电化学腐蚀试验表明,加入Al2O3粉末后陶瓷膜的耐蚀性有很大提高。  相似文献   
6.
镁合金表面加弧辉光离子渗镀Ti的腐蚀性能研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
加弧辉光离子渗镀技术将辉光放电与弧光放电有机地结合起来,利用辉光放电空心阴极效应使工件迅速升温,同时在真空容器壁上设置一个或多个金属阴极电弧靶源,利用真空电弧放电而不断地发射出高能量、高电流密度、高离化率的欲渗金属离子流,依靠扩散和离子轰击作用快速渗入工件表面层,在工件表面可以形成渗层、镀层、渗镀结合层.在实验条件下对镁合金AZ91表面渗镀了Ti,采用极化曲线测试和盐雾实验分析了处理后材料的腐蚀行为,用扫描电镜(SEM)分析了Ti镀膜的表面形貌,用电子衍射光谱(EDS)和辉光放电光谱仪(GDS)分析了表面化学成分分布.结果表明渗镀Ti显著提高了AZ91的耐腐蚀性.  相似文献   
7.
提出一种新的钛合金表面强化方法,利用加弧辉光离子无氢渗碳技术在钛合金表面形成渗碳层。该方法是在加弧辉光离子渗镀技术中引入由高纯石墨制成冷阴极电弧石墨靶,按冷阴极场致发射机制,源源不断地从电弧石墨靶上发射出高能量、高密度、高离化率、高速度的离子流,成功的在钛合金(Ti6Al4V)基材表面形成25—30μm厚的渗碳层,同时避免了氢元素对钛合金造成的氢脆问题。电化学腐蚀试验表明钛合金无氢渗碳后耐蚀性能得到提高,在0.5mol/L的稀硫酸腐蚀介质中,耐蚀性提高7倍多。渗碳后钛合金表面显微硬度达到936(HV)。其中,渗碳层相结构采用XRD进行检测。  相似文献   
8.
介绍了一种在钢铁基体上制备氮化钽薄膜的新方法———网状阴极法。其设备简单、价格低廉。实验中发现 ,在工艺参数调配合适的条件下 ,可制备出结构为面心立方和密排六方结构的氮化钽薄膜。薄膜较致密且均匀 ,与基体结合良好。分析了优选工艺参数条件下合成的氮化钽膜的成分、组织、表面和断口形貌及结合力。  相似文献   
9.
在钛合金基体上,利用双层辉光离子渗金属技术,以纯铝作为源极,氩气为工作气体,利用不等电位空心阴极效应,进行渗铝正交试验工艺研究.用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)观察分析了钛铝合金渗层的截面形貌和相结构.结果表明,工艺参数对渗铝层的厚度有较大影响,并确定了最佳工艺参数为源极电压750 V,工件电压280 V,气压35 Pa,极间距20 mm.  相似文献   
10.
双层辉光离子渗金属多元共渗的研究   总被引:5,自引:1,他引:4  
  相似文献   
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