一种用于核辐射监测信号的多微处理系统

介绍了4兆伏静电正离子加速器的监测防护系统,该系统由多个微处理器与主控机分布式分布,组成高速多通道辐射信号采集控制系统,可以对多点核辐射的能量、强度、剂量率,剂量及剂量当量进行监测.系统的核电路部分采用最新的芯片产品,合理的硬件安排,优化的软件编程,在仅更换不同的探头后,便可探测分析γ,X及快中子辐射.在参数稍做调整之后,就可以广泛应用于类似条件的其他场所的辐射监测.     

铝合金槽型结构焊接变形数值模拟计算

为了预测7A52铝合金槽型结构的焊接变形,采用MSC.MARC非线性有限元软件对该结构的MIG焊接过程进行数值模拟计算,并与实际焊接变形数据对比。结果分析表明,数值模拟计算能够预测铝合金槽型结构焊接变形的总体趋势,并且预测结果与实际焊接变形实测数据接近。     

4MV静电正离子加速器辐射监测系统

介绍由主控计算机和多个探测通道组成的辐射监测系统,可以对多种辐射的能量、强度、剂量率、剂量及剂量当量进行监测.该系统虽然是为4MV静电正离子加速器辐射监测设计制作的,但同样适用于类似条件的其他场所的辐射监测.     

清香型大曲淀粉水解酶测定方法研究

液化型淀粉酶和糖化酶是大曲最主要的淀粉水解酶系,其酶活力直接影响淀粉的转化率及出酒率。分析了大曲液化力和糖化力形成环境——大曲以及作用环境——酒醅中有机酸组成,发现均是乳酸含量远高于乙酸含量;考察酿酒过程中乙醇生成阶段的pH值、淀粉和乙醇变化曲线,结果发现,液化力和糖化力起作用的环境pH值在3．8左右;进而比较乙酸一乙酸钠和乳酸一乳酸钠两种缓冲液以及不同pH值对液化力及糖化力的影响。结果表明．相同条件下乳酸-乳酸钠缓冲液检测的大多数样品液化力和糖化力值偏高,说明其比乙酸一乙酸钠有利于发挥催化作用,而且不同样品的差距大,有利于对大曲样品质量区分和评价;而降低pH值检测酶活性能分析大曲酶制剂中耐酸性酶的组分更接近酿酒环境,有利于真实反映大曲酶系在酿酒过程起到的催化作用。     

柴油机气门座孔热处理工艺研究

柴油机采用无气门座圈结构后,为实现气门-气门座孔摩擦副硬度匹配合理,采用激光表面淬火工艺,通过对激光功率、扫描速度、保护气量等参数的合理调整。最终使气门座孔锥面硬度满足了气门-气门座孔摩擦副要求。     

一种常压放电等离子体产生研究脉冲高压电源

常压下采用脉冲激励产生等离子体。方波脉冲电源可调节电压幅值、重复频率及脉冲宽度。重频高压窄脉冲调制器其输出波形和电压幅值受脉冲变压器漏磁电感和分布电容、等待充电回路、直流高压电源脉冲电容等参数的影响,采用电路仿真软件对其进行仿真计算,得到最高输出电压80 kV~90 kV,脉宽230 ns,脉冲前沿124 ns,脉冲重复频率可实现单次和130 Hz~1 kHz连续可调,重复频率脉冲幅值抖动在5%~10%。     

让终端更便捷、更安全

随着科技的不断发展进步,各种终端设备的智能化和集成化程度越来越高,然而如何让我们从设备获取信息的方式越来越简单并且没有其他隐患,成为目前各种终端设备面临的问题。语音技术的应用,给人们带来了福音,它让这些问题都可以迎刃而解。语音技术包含语音合成和语音识别。语音合成将文本状态的信息转换成语音的形式输出。就像给设备安装上了嘴巴,你想让设备说什么,设备就可以说什么,解决了设备上的信息只能看不能听得问题。语音识别使得设备可以听懂用户的话,目前在嵌入式领域发展比较成熟的是命令词的识别。语音识别就像给设备安装了耳朵,让…     

加强高校德育工作的探索与思考

针对新时期高校德育工作面临的主要问题,提出了通过重视高校德育工作、坚持德育正确方向、创建"三全”育人氛围、丰富德育载体、加强德育环境建设等主要措施,进一步做好高校德育工作.     

抗病毒病K326新品系Y48抗TMV的细胞学机制研究

Y48是对主栽烤烟品种K326的病毒病抗性进行定向改良培育出的新品系,在保持原K326其他性状不变的前提下,对TMV和CMV抗性显著提高。为揭示其在细胞学方面的抗病机制,本研究利用透射电子显微镜（TEM）对TMV接种0~72 h后的K326和Y48叶片进行超微结构观察。结果显示,K326接种24 h时,叶绿体类囊体片层减少,线粒体膨大,胞内出现自噬结构,接种72 h时,叶绿体、线粒体被病毒完全破坏,叶肉细胞病理性坏死;而Y48,在接种48 h时才发生叶绿体内部沉积少量颗粒,线粒体嵴消失,胞内出现降解的囊泡,接种72 h叶绿体,线粒体全部降解,细胞质凝集,叶肉细胞程序化死亡。结果表明,相对于K326,Y48可以延迟TMV病毒的侵染,并启动超敏反应,发生HR-PCD,并且Y48接种8 h后出现过氧化物酶体,可能影响细胞内ROS代谢水平,二者或许是Y48对TMV表现抗病的细胞学证据,研究结果为进一步解析Y48的抗病分子机理奠定了基础。     

铜表面激光合金化和激光熔覆制备Ni/NiCrBSi梯度涂层

利用激光表面合金化和宽带激光熔覆工艺在铜基体表面制备出由Cu-Ni合金化层和NiCrBSi熔覆层组成的梯度涂层。用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪及显微硬度计,系统分析合金化层与熔覆层的物相构成、显微组织及硬度。结果表明:合金化层与铜基体之间的界面呈"锯齿状",在合金化层近基材底部是一种不规则的层状结构;在合金化层中,Ni、Cu元素发生充分互溶,使合金化层的热导率降低至Cu基体的1/9,有效提升铜表面NiCrBSi熔覆层的成形能力;同时,NiCrBSi熔覆层组织致密,其强化相由γ-Ni、Cr B、M_(23)C_6及Ni_3Si构成,显微硬度明显提高,平均值达到400HV,是铜基体硬度的5倍。从铜基体到NiCrBSi熔覆层,显微硬度呈梯度增加,涂层具有里韧外硬的特征。