用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制

在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450mm×450mm(φ650mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过气体辉光放电来达到去残胶的目的,辉光放电速率可通过调节工作气体的浓度来控制.已用该装置灰化处理了200 mm×400mm×50mm的脉宽压缩光栅.     

大尺寸衍射光学元件的扫描离子束刻蚀

总结了大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀技术的研究进展。针对自行研制的KZ-400离子束刻蚀装置,提出了组合石墨束阑结构和多位置分步刻蚀策略来提高离子束刻蚀深度的均匀性,目前在450mm尺寸内的刻蚀深度均匀性最高可达±1%。建立了针对多层介质膜光栅的衍射强度一维空间分布在线检测系统以及用于透射衍射光学元件离子束刻蚀深度的等厚干涉在线检测系统,实现了对大尺寸衍射光学元件离子束刻蚀终点的定量、科学控制,提高了元件离子束刻蚀工艺的成功率。利用上述技术,成功研制出一系列尺寸的多层介质膜光栅、光束采样光栅、色分离光栅以及同步辐射光栅等多种衍射光学元件。     

基于角色的授权与访问控制的研究

文章在对基于角色的授权与访问控制框架进行分析的基础上,给出了一个基于RBAC的授权与访问控制系统的设计方案。     

授权与访问控制策略模型的研究

针对现有授权与访问控制系统大规模、跨地域、分布式、多应用的发展趋势,在分析系统中策略分类和策略管理的作用的基础上,从策略之间的约束关系和策略作用范围的角度出发,创建了适应分布式环境的策略层次、策略作用域模型。     

PKI、PMI技术研究

该文对公钥基础设施PKI及特权管理基础设施PMI技术的概念、基本组成及系统框架等进行了简要的介绍及分析。     

免棱镜全站仪在拱顶变形测量中的应用研究

以免棱镜全站仪为测量设备,利用测点高差相减法对地下隧道拱顶的沉降变形量进行了测量。测量结果表明:该方法能够精确地测量地下隧道拱顶的沉降变形量,且具有操作简单、测量方便、计量准确的优点,可极大地提升隧道施工安全性和效率。