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1.
磁光成像使亚表面缺陷探测可视化的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
贺春光  周肇飞  朱目成 《机械》2004,31(10):17-20
根据间歇式脉冲激励电涡流,以及法拉第磁光效应使反射光的偏振面发生偏转的原理,提出了一种磁光/涡流显微成像技术,目标是实现对亚表面细小缺陷的可视化无损检测。介绍了基本原理和新型传感器的设计,并通过实验与传统涡流传感器进行了比较。  相似文献   
2.
磁光/涡流实时成像检测系统的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了磁光/涡流成像检测系统的基本工作原理及组成,给出了初步的实验结果,并对试验结果进行了相应的图像处理,实现了对表面及亚表面细小缺陷的可视化无损检测,克服了传统的涡流检测方法中探头尺寸相对较小而检测面积大,检测工作要消耗大量时间且不易操作的缺点,并具有探测结果可视化且直观易懂;易于保存;检测难度低;检测前不需要清除油漆等表面覆盖层,只需要保证待检测表面具有较好的反射性能;可对亚表面以及表面缺陷进行实时成像检测等优点。试验结果进一步验证了系统的正确性和重要性。  相似文献   
3.
He-Ne拍波激光干涉仪的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
朱目成  周肇飞  张涛 《激光技术》2004,28(5):531-533
介绍了一种可对大尺寸工件进行无导轨精密测量的方法和装置。装置以双纵模热稳频HeNe激光器为光源。理论及实验均证明该光源的频差有较高的稳定度(室外不低于1×10-7)和强的抗干扰性,拍波频率约为750MHz,拍波长约为400mm。该装置以拍波合成的场强信号的节点为对准标志,以光路组合形成的双频激光干涉仪测量尾数部分。实验表明,该装置的节点定位精度小于0.05mm,尾数测量部分分辨率为0.08μm,整个测量系统可在20m范围内进行精度为±50μm+1.5×10-6·L(L为被测长度,单位为m)的测量。  相似文献   
4.
分析了边缘点影响非对称采样精度CCD图像中心拟合精度的原因,结合实验阐述了边缘点精度和数量对拟合精度影响程度的差异,得出选取拟合边缘点应沿像素坐标精度高的方向搜索的原则。最后得提出了一种复合算法,通过提高边缘点质量,使拟合误差小于±3μm,拟合精度达到亚像素级。  相似文献   
5.
光干涉法测量微机械零件变形的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了用光干涉法测量微加速度计零件变形的研究。将准直单色光投射入由一玻璃片和被测件之间形成的空气楔中,被测件表面和玻璃片底面反射的光发生干涉,由面阵CCD接收。用快速傅立叶变换(FFT)图像处理方法得到被测微悬臂梁的三维形变图。该方法可对微小器件的微位移作分辨办为10nm的测量,并直观的显示测量结果。  相似文献   
6.
本文讨论了线阵CCD在一非接触高精度测量系统中照明光源的选择问题。由于测量点多 ,要求测量速度、精度高 ,线阵CCD又处于运动状态 ,因此在光积分时间非常短的情况下 ,对物体的照明提出了较高要求。本文在实验基础上通过比较多种照明光源 ,找出了满足高精度、高速度测量系统测量要求的照明光源。  相似文献   
7.
线阵CCD在高精度测量系统中的照明选择   总被引:3,自引:0,他引:3  
本文讨论了线阵CCD在一非接触高精度测量系统中照明光源的选择问题。由于测量点多,要求测量速度,精度高,线阵CCD又处于运动状态,因此在光积分时间非常短的情况下,对物体的照明提出了较高要求。本文在实验基础上通过比较多种照明光源,找出了满足高精度、高速度测量系统测量要求的照明光源。  相似文献   
8.
一种亚纳米级分辨力同轴式激光轮廓测量系统   总被引:1,自引:0,他引:1  
分析了一种同轴式激光轮廓测量系统的工作原理,开发出了一套基于WINDOWS的测量控制软件,使它具有自动控制、数据采集、信息处理及结果输出等功能,可以用三维图形直观显示被测量物体表面微观形貌、进行多种表面粗糙度参数计算。此测量系统的分辨力优于0.1nm,重复性2σ优于1.2nm。  相似文献   
9.
双纵模热稳频激光源的模糊PID控制研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
为了满足激光拍频干涉仪所需要的高的频率稳定性的激光光源,研究了双纵模热稳频的机理。以控制激光管放电电流为主要热控制方式及自创的对激光管进行感应加热作为微量控制的先进方法为控制手段,采用模糊控制理论与专家系统相结合的控制策略,建立模糊PID控制器,对双纵模激光源进行稳频。无须建立被控对象数学模型,对时滞、非线形和时变性具有一定的适应能力。实验结果显示,稳频精度无明显变化,但预热时间明显缩短,抗干扰性明显增强,强干扰后也能迅速稳频。  相似文献   
10.
激光表面粗糙度测量仪的研制   总被引:1,自引:0,他引:1  
激光表面粗糙度测量仪利用半导体激光器为光源,激光束投射到试件表面经微观形貌调制而形成散射场,根据对散射场分布的处理测量表面粗糙度。接收半散射带的方法处理散射光分布,测量对试件的放置位置要求低(允许的最大倾斜度X向±2°,y向±5°,测量距离偏差限为±2mm);测量范围Ra从0.005μm到2μm,配置附件可对有特殊形面的试件和内表面的粗糙度进行测量.  相似文献   
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