首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   14篇
  免费   0篇
  国内免费   4篇
金属工艺   1篇
机械仪表   9篇
武器工业   1篇
无线电   3篇
一般工业技术   2篇
原子能技术   2篇
  2011年   2篇
  2009年   1篇
  2003年   1篇
  2002年   1篇
  2001年   2篇
  2000年   2篇
  1999年   5篇
  1996年   1篇
  1995年   1篇
  1991年   2篇
排序方式: 共有18条查询结果,搜索用时 37 毫秒
1.
成像光谱仪光谱定标   总被引:2,自引:0,他引:2  
裴舒 《光机电信息》2011,(11):48-51
成像光谱仪是谱像合一的新型光学遥感器.成像光谱仪的光谱定标是辐射定标的基础,准确的光谱定标是获得地物正确光谱信息的必要条件.介绍了成像光谱仪光谱定标的原理和几种光谱定标方法,并对国内成像光谱仪光谱定标技术进行了展望.  相似文献   
2.
LD泵浦的室温运转内腔倍频473nm全固态蓝激光器   总被引:8,自引:3,他引:5  
从理论上分析了准三能级系统固体激光器室温运转的条件以及实现方法,同时给出了实现473nm蓝光发射的方案.报道了用波长808.5nm,功率为2W的半导体激光器泵浦Nd:YAG,采用内腔倍频的方法,在室温下获得946nm波长准三能级连续红外激光输出120mW,以及用BBO晶体倍频获得473nm波长10mW的连续蓝色激光输出.  相似文献   
3.
固着磨料加工碳化硅反射镜的实验   总被引:2,自引:2,他引:0  
考虑固着磨料加工工艺其固着磨料与工件相对运动关系固定,有利于精确加工,提出了采用该工艺加工碳化硅反射镜的方法,利用大颗粒金刚石磨料快速加工出了较好的镜面质量.在工艺实验中,分别测得了W7,W5,W3.5,W1.5 固着磨料丸片在特定转速和压力下对碳化硅材料的去除特性.对多组去除量曲线的分析表明,此工艺不仅有着较高的去除率,而且稳定性良好.对表面粗糙度测量的结果表明,使用W7丸片即可获得粗糙度为42.758 am rms的镜面.减小所用丸片的粒度,工件表面粗糙度随之减小,使用WI.5丸片抛光后,最终获得了粗糙度为1.591 nm rms的光滑镜面.实验结果表明,固着磨料加工碳化硅反射镜工艺在粗研、精研、粗抛等加工阶段内可以取代传统的散粒磨料加工工艺.  相似文献   
4.
微晶玻璃低温抛光表面微观形貌的研究   总被引:9,自引:0,他引:9  
揭示了微晶玻璃的内部微观结构、其组成成分的结晶相和玻璃相、晶粒尺寸的测定,重点分析了超精密低温抛光后微晶玻璃的表面形貌和表现出来的微观表面缺陷。  相似文献   
5.
采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。  相似文献   
6.
X光多层膜反射镜是软X光光学尤其是X光激光研究的重要元件。随着X光激光的发展,X光多层膜反射镜的应用日益广泛,但产生X光激光的等离子体环境给X光多层膜反射镜的应用带来困难,最突出的就是等离子体发射的X光对多层膜的损伤与破坏。通过模拟实验,给出国产Mo/Si多层膜反射镜的破坏阈值小于0.10J/cm~2。在这个剂量辐照下,多层膜表面均方粗糙度明显增加,反射率几乎降至为零。根据这些结果,该文提出了防止多层膜反射镜破坏的一些想法。  相似文献   
7.
在λ=285nm波长处,选择了一种新的多层膜材料对C/Al。与Mo/Si,C/Si软X射线多层膜相比,正入射C/Al多层膜在150nm附近有很低的二级衍射峰。用磁控溅射法制备了C/Al软X射线多层膜样品,并用X射线小角衍射法对其结构进行了测试。  相似文献   
8.
用硅酸盐体系电解液进行铝合金微弧氧化时,氧化膜表面出现白色斑点状物,影响零件质量和外观,对这种白色斑点状物进行EDS和XRD成分测试,同时还对形成原因进行分析。结果表明,白色斑点状物是由SiO2聚集而成。  相似文献   
9.
DY砂芯粘结剂的应用研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文介绍了一种新型粘结剂-DY粘结剂在铸造中的应用,试验了各工艺因素对粘结剂干拉强度的影响。生产应用表明,新材料减轻环境污染,提高铸件质量,并有较好的经济效益,有一定推广应用价值。  相似文献   
10.
软X光激光用多层膜反射镜的制备与检测   总被引:7,自引:0,他引:7  
介绍在制备和检测软X光激光用多层膜反射镜中听做的研究工作。重点是制备过程,包括基板、镀膜设备、膜厚控制方法,以及经大量实验得出的镀膜工艺条件、给出了利用X光射线衍射仪所做的周期结构检测结果,以及利用激光等离子体作光源的精密反射率计所作的反射率测量结果。最后,对工作进展和存在的问题做了简略评述。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号