LD泵浦的室温运转内腔倍频473nm全固态蓝激光器

从理论上分析了准三能级系统固体激光器室温运转的条件以及实现方法,同时给出了实现473nm蓝光发射的方案.报道了用波长808.5nm,功率为2W的半导体激光器泵浦Nd:YAG,采用内腔倍频的方法,在室温下获得946nm波长准三能级连续红外激光输出120mW,以及用BBO晶体倍频获得473nm波长10mW的连续蓝色激光输出.     

用离子束溅射法制备X射线多层膜的实验和工艺

叙述了用离子束溅射镀膜机进行X射线波段多层膜镀膜实验及制备X射线多层膜光学元件方面的工作,简述离子束溅射镀膜机的工作原理,X射线多层膜的制备过程,主要工艺参数及注意事项,以及用X射线小角衍射仪对制备样品进行检测的部分结果。     

X射线成像光学的新进展：Bragg－Fresnel多层膜元件

简要叙述了Ｘ射线反射式衍射光学元件──Ｂｒａｇｇ－Ｆｒｅｓｎｅｌ多层膜元件产生和发展的过程。介绍了它的基本原理及它的设计和制作步骤。对其应用前景作了简要分析，并对开展这方面的研究工作提出了一些设想。     

Mo/Si和Mo/B_4C软X射线多层膜的界面热稳定性研究

用磁控溅射法制备Mo／Si多层膜（周期为25nm，20层）和Mo／B4C多层膜（周期为3．9nm，121层），并在真空中加热30min，温度为200，400，600，800和1000℃。用小角X射线衍射法和透射电镜研究不同温度下（保温0．5h）加热的样品。实验结果表明，当加热温度达600℃时，Mo／Si多层膜周期被破坏。而Mo／B4C多层膜在800℃加热温度下仍保持周期性层状结构。说明Mo／B4C多层膜不仅周期只有3．9nm，而且具有很好的热稳定性，可以作为较短波长的软X射线多层膜推广应用。     

30.4 nm Si/C多层膜反射镜的制备与测量

采用离子束溅射镀膜装置制备了一种新的材料组合Si/C多层膜 ,用于 30 4nm波段的正入射多层膜反射镜。并用软X射线反射率计测得其反射比最大值为 0 14。有效地抑制了 15 0nm处的二级衍射峰。     

用离子束溅射法制备长波段X射线多层膜

叙述了用离子束溅射镀膜机ＯＸＦＯＲＤ进行Ｘ射线长波段多层膜实验及制备Ｘ射线多层膜光学元件方面的工作。简述离子束溅射镀膜机的工作原理,Ｘ射线多层膜的制备过程,主要工艺参数,以及用Ｘ射线小角衍射仪对制备样品周期结构的检测和用软Ｘ射线反射率计测反射率的部分结果。     

X光多层膜反射镜的损伤与破坏

X光多层膜反射镜是软X光光学尤其是X光激光研究的重要元件。随着X光激光的发展,X光多层膜反射镜的应用日益广泛,但产生X光激光的等离子体环境给X光多层膜反射镜的应用带来困难,最突出的就是等离子体发射的X光对多层膜的损伤与破坏。通过模拟实验,给出国产Mo/Si多层膜反射镜的破坏阈值小于0.10J/cm~2。在这个剂量辐照下,多层膜表面均方粗糙度明显增加,反射率几乎降至为零。根据这些结果,该文提出了防止多层膜反射镜破坏的一些想法。     

28.4nm和30.4nm波段的C/Si多层膜

对于宇宙的探讨,特别是对太阳大气层的研究,需要用Ｘ射线、极紫外及远紫外波段望远镜来观测。我们报道了一种新的材料组合Ｃ／Ｓｉ用于２８．４ｎｍ（４３．６５ｅＶ）和３０．４ｎｍ （４０．７８ｅＶ）波段的多层膜反射镜,并且用离子束溅射装置制备了正入射条件下的Ｃ／Ｓｉ多层膜反射镜。同时,我们用软Ｘ射线反射计测量了其反射率,在正入射条件下测得最大反射率达１４％ （３０．４ｎｍ ）。     

用离子束溅射法制备长波段X射线多层膜

叙述了用离子束溅射镀膜机ＯＸＦＯＲＤ进行Ｘ射线长波段多层实验及制备Ｘ躬一多层膜光学元件方面的工作。简述离子束溅射镀膜机的工作原理,Ｘ射线多摹制备过程,主要工艺参数,以及用Ｘ射线小角衍射仪对制备样品周期结构的检测和用软Ｘ射线反射率计测反射率的部分结果。     

用磁控溅射法制备软X射线多层膜

本文介绍用直流-射频平面磁控溅射法制备软x射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,严格按照设计周期制备了多层膜样品,并给出了X射线衍射仪小角衍射的检测结果。