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1.
聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用   总被引:3,自引:1,他引:2  
  相似文献   
2.
介绍了最新设计的二级透镜聚焦离子束系统,该系统具有高速消隐、束径束流电可调等特征。给出了该系统的设计计算和调测结果。在束能15keV、束流30pA时,束径达到0.1μm。  相似文献   
3.
4.
研究了亚微米聚焦离子束(FIB)系统的漂移现象,给出了测量漂移的方法,分析引起漂移的原因及降低漂移的措施。发现了偏转电极上钝化层及污染物充电电荷所引起的漂移现象;测出了各电极电压变化所引起漂移的大小;发现了由于外壳温度不均匀引起离子枪轴线相对样品变化所引起的漂移。提出了制作透镜电极时保持轴对称、特别是限制光栏必须位于透镜光轴上的必要性。所给出的漂移数据既包含早期曾研制的单级透镜FIB系统的数据,也包含近期研制的二级透镜可变束流FIB系统的数据。  相似文献   
5.
6.
聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣,它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点,然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。  相似文献   
7.
8.
热风阀是高炉系统中工作条件最恶劣的设备之一,而且能耗较高,引进消化新技术,设计节能长寿的热风阀势在必行,本文简要叙述了设计思路。  相似文献   
9.
单级透镜聚焦离子束系统的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
建立了一台简单实用的单级透镜聚焦离子束(FIB)系统。该系统采用优越的Ca ̄+液态金属离子源(LMIS)和单级O-S透镜,在束能为20keV、束流为300pA时,束径达到0.3μm。改进了束斑的测量方法。研究了影响束斑的各种因素。该系统既可用来作为扫描离子显微镜,又可作为亚微米加工工具。文中给出了在该系统上得到的样品显微图像和刻蚀图形的结果。  相似文献   
10.
采用移动床生物膜反应器(Maaa)深度处理造纸中段废水,运行结果表明,在进水COD负荷为0.8 ks/(m3·d)、悬浮填料填充率为30%、DO>2 ms/L、水温为26~32 ℃、水力停留时间为6.5 h的条件下,MBBR反应器运行稳定且处理效果良好,对COD、SS的去除率稳定达到50%以上,出水水质达到<造纸工业水污染物排放标准>(GB 3544-2001)中非木浆类的一级排放标准.  相似文献   
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