全文获取类型
收费全文 | 54篇 |
免费 | 9篇 |
国内免费 | 4篇 |
专业分类
电工技术 | 2篇 |
综合类 | 3篇 |
机械仪表 | 4篇 |
矿业工程 | 1篇 |
能源动力 | 32篇 |
轻工业 | 1篇 |
无线电 | 16篇 |
一般工业技术 | 3篇 |
原子能技术 | 1篇 |
自动化技术 | 4篇 |
出版年
2022年 | 1篇 |
2021年 | 1篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 6篇 |
2018年 | 5篇 |
2016年 | 1篇 |
2015年 | 2篇 |
2013年 | 1篇 |
2012年 | 2篇 |
2011年 | 4篇 |
2010年 | 4篇 |
2009年 | 4篇 |
2008年 | 4篇 |
2007年 | 1篇 |
2006年 | 3篇 |
2005年 | 3篇 |
2004年 | 3篇 |
2003年 | 3篇 |
2002年 | 5篇 |
2001年 | 6篇 |
2000年 | 1篇 |
1991年 | 1篇 |
1990年 | 1篇 |
1989年 | 1篇 |
1988年 | 1篇 |
1987年 | 1篇 |
排序方式: 共有67条查询结果,搜索用时 31 毫秒
1.
为分析预弯处理对10 MW级风力机叶片气动特性的影响,以DTU 10 MW风力机为例,采用CFD数值模拟方法,研究均匀来流不同风速下风力机的输出功率,并与BEM计算结果进行对比。同时,对比分析直叶片和预弯叶片风力机的功率特性、沿展向出力分布、沿展向不同截面翼型的流动特性。研究结果表明,直叶片各截面翼型的压力差较预弯叶片的大,做功能力较强。预弯通过对叶片的三维流动产生扰动,进而影响风力机的输出功率,且主要体现在叶片展向70%~90%的位置。研究成果可为风力机叶片气动性能的设计与优化提供参考。 相似文献
2.
针对现有致动盘模型高估尾流速度的问题,对动量源项进行修正,以正确反映风轮对来流的作用;对湍流模型进行修正,在标准k-ε方程中添加湍流动能源项和耗散率源项,使湍流动能的生成和耗散相互协调;修正耗散率源项系数,使其沿径向服从抛物线分布。选取风洞实验数据对模型进行验证,并对串列和错列排布下的尾流流场进行分析。结果表明:串列排布时尾流的速度损失和湍流强度均增加,并随间距的增大而减小;错列排布对尾流湍流强度的影响大于对速度的影响,下游尾流会出现湍流强度不对称现象,横向间距为1D时最为严重,横向间距为4D时仍可观察到不对称现象。 相似文献
3.
针对已建风电场,提出一种考虑尾流效应的风电场优化控制方法,以减少风电场尾流效应,提高风电场整体输出功率。研究机组状态参数变化与输出功率、尾流分布间的量化关系,揭示风电机组状态参数变化与输出功率、尾流分布间的耦合关系;提出尾流与风轮交汇面积的计算方法,建立多台风电机组的尾流叠加模型;以风电场整体输出功率最大为目标函数,轴向诱导因子为优化参数,粒子群算法为优化算法,建立考虑尾流效应的风电场优化控制模型。以丹麦Horns Rev风电场为算例进行计算分析,结果表明:所提出的考虑尾流效应的风电场优化控制方法能够使风电场整体输出功率增加。 相似文献
4.
以NREL 5 MW风力机为研究对象,忽略风轮的仰角和锥角,采用CFD数值模拟方法并选用SST湍流模型研究均匀来流条件下不同风速时风力机的输出功率,并与FAST软件的计算结果进行比较。分析叶片展向不同截面的压力分布和径向速度流场,讨论风力机尾流场速度和湍动能的变化规律。研究结果表明,沿着叶片展向自叶根至叶尖,吸力面压力逐渐降低,低压区覆盖面积逐渐增大;压力面压力逐渐升高,前缘与尾缘附近压力增幅较大。风穿过风轮能量被大量吸收,风轮对来流的阻塞作用主要集中在近尾流区。风轮后随着流体从近尾流区运动到远尾流区湍动能逐渐减小。 相似文献
5.
6.
7.
8.
9.
为制成千兆位级DRAM ,人们期望可实现单元电容器微细化的高介电常数膜材料。为此 ,开发了SiO2 ,膜 /氮化膜、Ta2 O5膜等。而且 ,也期待开发高介电常数电容器材料———钛酸钡锶氧化膜 (BST :(BaSr)TiO3)成膜技术。此时 ,NEC便开发了低温成膜和台阶覆盖性良好的ECR—CVD法形成的BST成膜装置。开发的装置特点如下 :( 1)Ba、Sr、Ti各种材料为挥发性金属化合物 ,Ba、Sr采用decatnate系络合物材料 ;Ti采用醇盐系材料。靠着精密原料输送系统的温控可控制原料化合物的蒸气压 ,进而控制原料输… 相似文献
10.
松下电器产业开发了起因于信号布线造成的延迟减小的中空结构多层布线技术。该技术由下面新技术构成 :即 ,将中空结构的多层介质膜作为层间介质膜而形成的技术 ,将布线结构本身厚膜化再进行布线间隙的高平面形状化技术 ,采用自调整方式的经路 (Via)形成技术。由于布线结构的高平面形状化和中空结构的层间介质膜多层化 ,在 0 3μm布线间隔时 ,获得布线间为 1 8电容率。由于布线结构加厚而布线间隔的纵横比尺寸增高及层间介质膜复盖特性最佳化 ,因而将布线间隔的空隙率提高至 90 % ,因此提高了实质性的电容率。由于层间介质膜多层化 ,控… 相似文献