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本文提出一种湿法制备技术利用珍珠岩层矿制备珍珠岩抛光磨料。与传统干法工艺相比,珍珠岩抛光磨料产品产率从30%提高到70%以上,颗粒粒度百分之百小于150μm,而0-44μm粒级含量不到10%。粒度分布更加合理,完全满足玻壳行业及相关行业的要求。湿法制备珍珠岩抛光磨料是珍珠岩加工业充分合理利用珍珠岩层矿的十分有效的利用途径。 相似文献
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