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1.
硬脂酸改性硅灰石机理的红外光谱研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
通过对硅灰石改性前后红外光谱的测试,分析了硅灰石在高速搅拌条件下的改性机理。研究表明在这种情况下硬脂酸对硅灰石的改性主要是一种化学键合作用,红外光谱可以对硬脂酸的用量进行定量分折。  相似文献   
2.
矿物药是中医药的一个重要组成部分 ,是中华民族的文化瑰宝。但在其定名、使用、炮制、药理学和毒理学研究中存在着诸多问题。通过讨论 ,本文提出了对矿物药要根据其成分统一命名 ,科学使用 ,建立国家矿物药质量标准和质量认定体制等具体办法。同时对矿物药新的发展趋势进行了总结  相似文献   
3.
超细高长径比硅灰石制备技术研究   总被引:7,自引:2,他引:7  
对制备超细高长径比硅灰石的研究从破碎阶段开始就注重对其针状晶体的保护 ,采用长腔颚式破碎 ,使破碎作用于硅灰石矿物上的力分别以挤压力和摩擦力为主 ,避免过粉碎 ,可有效地保护粗颗粒硅灰石的针状晶体结构。采用多种超细粉碎设备对硅灰石进行超细粉碎 ,结果表明 ,QLM Ⅳ型流化床式气流粉碎系统在磨腔工质压力为 0 . 7~ 0 . 8MPa,轴承防护气体压力为 0 . 2 0MPa、清洗气体工作压力为0 .15MPa、分级轮转速 2 0 0 0r/min的工艺条件下 ,粉碎产品平均粒度为 5 . 60 μm ,长径 /短径高达 16 .17。  相似文献   
4.
以高岭土和丙烯酸为原料,采用溶液聚合法合成得到超强吸水性高岭土/聚丙烯酸钠复合材料,讨论了实验中主要因素对其吸水性能的影响.结果表明交联剂用量0.05%,引发剂用量0.30%,高岭土添加量30%,中和度85%,反应温度65℃,复合材料吸蒸馏水最佳,倍率达407.9g/g;交联剂用量0.05%,引发剂用量0.20%,高岭土添加量40%,中和度80%,反应温度65℃,吸自来水最佳,倍率达230.2g/g;交联剂用量0.05%时,引发剂用量0.20%,高岭土添加量20%,中和度70%,反应温度65℃,吸生理盐水最佳,倍率达62.3g/g.  相似文献   
5.
伊利石/聚丙烯酸钠高吸水复合材料的制备及表征   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用水溶液聚合法制得伊利石/聚丙烯酸钠高吸水复合性材料。在优化工艺条件下,产品吸自来水倍率可达285.7,吸盐水倍率可达79.7。并用偏光显微镜、红外光谱仪对复合材料进行了表征。  相似文献   
6.
利用水溶液聚合法制备了海泡石粘土/聚丙烯酸(钠)高吸水保水复合材料,研究了海泡石粘土在0%~10%及20%~150%添加量范围对复合材料的吸水保水、重复吸水及抗电解质溶液性能的影响。结果表明,海泡石添加量在4%和40%~60%范围时,复合材料的吸蒸馏水倍率达到极大值。海泡石添加量大于60%时,复合材料吸水倍率急剧下降。复合材料的保水率随着海泡石添加量的增加而小幅增加;海泡石粘土添加量在40%~60%范围时,复合材料的重复吸水性能比较稳定;复合材料吸蒸馏水的倍率随各电解质溶液离子强度的升高而不断降低,且海泡石粘土添加量高的复合材料对外界溶液离子强度的敏感程度较高。  相似文献   
7.
本文论述了鄂西构造蚀变型方解石矿的质量、超细重质碳酸钙产品工艺流程、超细重质碳酸钙在造纸涂料、塑料及橡胶中的应用研究。  相似文献   
8.
1 IntroductionAsknown ,thefrictionmaterialisatypeofcompos iteswhosefrictionalcoefficientisconcerned .Thecompos iteconsistsofthreeparts :matrixmaterial,reinforcingmaterial ,andadjustingagent.Asbestosistraditionallyusedasareinforcingmaterial ,butasbestos basedfric tionalmaterialhaslargeheat fade ,whichcannotmeetthedemandforbrakingathightemperature .Inaddition ,as bestosmayinducecancer[1] .Asboththeenvironment pro tectionandthebrakingefficiencyareconsidered ,thetra ditionalasbestosfrictionalmat…  相似文献   
9.
本文选择了四个主要影响蒙脱石有机化层间距的因素(插层剂含量、温度、搅拌时间、pH值)设计了18个试验,用极差法和回归法分析了实验结果,结果表明制备最大层间距的最佳工艺条件为插层剂含量70%;温度为95℃;搅拌时间为2h;pH值为5,而且在插层剂含量<70%时,制备的蒙脱石层间距与插层剂含量存在线性关系.即蒙脱石层间距=1.771+2.828×插层剂含量,其他因素影响程度很小.这一结论对不经过X-ray测试而直接估算制备的蒙脱石层间距起到了指导性的作用.  相似文献   
10.
本文提出一种湿法制备技术利用珍珠岩层矿制备珍珠岩抛光磨料。与传统干法工艺相比,珍珠岩抛光磨料产品产率从30%提高到70%以上,颗粒粒度百分之百小于150μm,而0-44μm粒级含量不到10%。粒度分布更加合理,完全满足玻壳行业及相关行业的要求。湿法制备珍珠岩抛光磨料是珍珠岩加工业充分合理利用珍珠岩层矿的十分有效的利用途径。  相似文献   
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