耦合腔行波管PPM聚焦系统横向磁场分析

借助三维静磁场分析软件,模拟仿真了两种非旋转对称PPM聚焦系统的内部磁场：极靴耦合槽分别呈180°和0°排列。根据仿真结果分析了阿良莫夫斯基关于PPM聚焦系统磁场实验中的横向磁场成因;总结了铁制加载头对PPM聚焦系统横向磁场的改善效果以及对磁饱和的影响。最后归纳出横向磁场的3种成因,分别阐述了铁制加载头对其影响;给出了...     

多注PPM聚焦系统中横向磁场的研究

对多注周期永磁(PPM)结构中横向磁场的分布规律进行了研究,模拟分析了耦合槽的存在对不同电子注通道内横向磁场的影响,讨论了多注PPM结构中横向磁场的抑制方法,并对极靴饱和对各电子注通道的影响进行了分析.结果表明,多注PPM结构中通道孔内横向磁场随孔与耦合槽距离的减小而增大,而极靴饱和对通道孔的影响程度与孔和耦合槽的距离成正比.同单注PPM结构相比,增大多注PPM结构中铁制加载头半径对横向场抑制最为明显.     

多注行波管PPM聚焦磁场设计方法研究

对多注行波管周期永磁(PPM)聚焦结构中横向磁场的分布规律进行了研究,模拟分析了多注PPM聚焦系统中横向场的旋转对称特性,并对该系统中的电子流通率进行了分析.结果表明,单注PPM结构设计中普遍采用的横向磁场设计原则不适用于多注PPM聚焦结构,因为后者磁场的非旋转对称现象将随着电子通道内径向位置的增大而增强.本文针对多注PPM聚焦系统中横向磁场分布特点,提出了一种多注PPM聚焦磁场设计的一般性方法,首次将对磁场旋转对称性的判断纳入多注PPM磁场设计中.测试结果证明该方法对多注PPM聚焦磁场的设计提供了较好的指导作用.     

基于电化学沉积的金属基微射频T形功分器研制

以光刻和精密微电铸技术为基础,采用正负胶相结合的方法,在金属基底上制作同轴结构的微射频T形功分器。采用单层分次曝光方法制作了微电铸用AZ 50XT厚正性光刻胶胶模,改善了单层单次曝光时胶模侧壁陡直性差的情况;使用粘附强度高的金属作为种子层以增强支撑体与内导体之间的结合力,解决了后处理时内导体易从支撑体脱落的问题;通过增加铸后光刻步骤,解决了铸层高度测量困难的问题。最终,制作出外形尺寸为7700μm×3900μm×210μm、最小尺寸为40μm的微射频T形功分器,为微型功分器的制作提供了一种可行的工艺参考方案。     

空间行波管慢波结构及注波互作用模拟设计

设计了Ka波段螺旋线行波管的慢波结构,分析其色散特性曲线和耦合阻抗,对高频系统进行了优化;利用PIC粒子模拟得到在工作频带内饱和输出功率＞73.5 W,增益畸变＜2%,并对试制样管进行了试验,测得在工作频带内输出功率＞45 W,电子效率＞12.5%,采用4级降压收集极后总效率大于40%,最后对模拟结果和实测结果的差异原因进行了简单分析。     

等离子体表面改性与大气压辉光放电的产生

等离子体表面改性技术已经广泛地应用于织物的处理过程中。与传统的材料表面改性技术相比，等离子体改性有着高效、无污染、节能等优点。目前采用的低气压下的辉光放电进行表面改性，不能进行连续处理，且操作繁琐。利用大气压辉光放电可克服低压放电的缺点，因此，研究大气压辉光放电的产生有着重要的生产实践意义。文中论述了等离子体表面改性的作用机理、优点，介绍了产生大气压直流辉光放电和交流辉光放电的方法。     

W波段双光栅准光学谐振腔Q值计算与分析

采用衰减测试法,对双光栅准光学谐振腔的 Q值进行数值计算与分析,得到匹配槽高度和宽度、光栅槽深度等参数对Q值的影响。通过分析 W波段谐振腔各参数与Q值的关系,总结出 W波段双开槽准光学谐振腔Q值的经验公式,为准光学谐振腔的设计提供了理论依据。同时模拟计算分析了双光栅结构的加入对谐振腔 Q值的影响。结果表明,相比普通准光腔,双光栅准光学谐振腔能够降低光栅引入对Q值的影响。